1) Double plasma device
双等离子体装置
1.
In double plasma device(DPD) ion waves can be excited by grid.
这类研究工作大多在稳态和双等离子体装置上进行。
2) plasma devices
等离子体装置
3) plasma device
等离子装置
1.
Application of plasma device in ignition and combustion stabilization of 2023 t/h boiler
等离子装置在2023t/h锅炉点火和稳燃方面的应用
4) denser plasma focus
稠密等离子体焦点装置
5) Dense plasma focus device
稠密等离子体聚焦装置
6) hot plasma device
高温等离子体装置
补充资料：等离子体双液体模型
等离子体双液体模型
two - liquid plasma model
。八取。e，，Mo八e二‘n”臼M“l 一种流体动力学模型，在其中等离子体被看作是由两种互相穿透运动的“液体”(电子和离子的液体)组成的.等离子体的电阻被认为是这些液体之间相互摩擦的结果. 按电子只受电子压p。作用而离子只受离子压几作用的假设，运动方程组有形式 业1竺址_一。丁E一李:v_、Hl!+ dt一(一“‘’尸一’少 VP。。__，、， 一-兰二生一Rn，(V一V、.门) 刀e 攀一{二告:一小 VP，n__，、， 一-二止生七一Rn_(V一V_)fZ) 儿，电子和离子之间的相互作用是通过摩擦力来考虑的，该力正比于速度差与运动减速粒子的浓度之乘积.量R称为相互摩擦系数或扩散阻力系数.考虑到等离子体的类中性条件(”。二Zn，=”)，等离子体双液体模型的运动方程化为形式 dV 11 二分=一含V尸+:子二[j xH]， d tP’J’Pe其中 儿MV.+”_mV_ V=.‘二二二~‘-‘--‘二里止二‘‘乙 Mn，+水n。是平均质量速度，p一p，+几是总压力，而j二e(Zn，V一n。V。)是离子流.如果m/M<
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参考词条