1) circle intermittent deposition
循环间歇溅射
1.
In this method,circle intermittent deposition is realized by periodical repetition of "deposition-nondeposition-annealing".
采用射频磁控溅射技术利用循环间歇溅射工艺,在Pt/Ti/SiO2/Si基片上制备出了镧钛酸铅(PLT)薄膜。
2) fitful-sputtering
间歇溅射
1.
Results show that compared with continuous-sputtering mode,the fitful-sputtering mode improves the films’ quality,because the crystal plain spacings .
结果表明:与连续溅射相比,间歇溅射可以降低ZnO(002)的晶面间距,晶粒长大致密化,随着间歇时间的延长,薄膜的自优化程度增加;与连续冷却相比,分段冷却对ZnO薄膜的质量影响不大,但可将薄膜的冷却时间,从2。
3) circular gap
循环间歇
4) batch loop mining
间歇循环采煤
5) Circular Control Intermittenly
间歇循环控制
6) intermittent cyclic gas-making
间歇循环制气
补充资料：循环系统的进化鱼的循环系统
李瑞端绘
[图]
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条