1) Amorphous chrome-plating
非晶态镀铬
2) amorphous chromium
非晶态铬
1.
Electrodeposition of amorphous chromium from Cr(Ⅲ) aqueous solution;
Cr(Ⅲ)水溶液电沉积非晶态铬的电化学
2.
The amorphous chromium coating was prepared by electrodepositing.
用电沉积方法制备了非晶态铬镀层 ,用X射线衍射仪分析了镀层的相结构 ,对镀层的组织与性能以及热处理对镀层组织与性能的影响进行了研究。
3) amorphous coating
非晶态镀层
1.
The processes of electroplating and chemical plating amorphous coating and the coating quality should be further studie.
因此,面对现代化工业和市场对换热器耐蚀性能要求的不断提高,综合各种防腐技术是解决换热器腐蚀问题的首选方法,改善电镀和化学镀非晶态镀层工艺问题、进一步提高非晶态镀层质量和沉积钛镀层的研究应是努力的方向。
4) amorphous electroplating
非晶态电镀
5) non-crystalline alloy plating
非晶态合金镀
1.
The characters, performances and study status of several new technologies to replace hard chromium plating were reviewed, including non-crystalline alloy plating, HVOF, carborundum powder plating and ion beam injection technology.
综述了几种可以替代镀硬铬的新工艺的特点、性能及其研究现状,包括非晶态合金镀、高速火焰喷涂、镀金刚粉、离子束注入技术等。
6) amorphous alloy coating
非晶态合金镀层
1.
Control of magnetic properties of electroplated amorphous alloy coatings;
电沉积非晶态合金镀层磁性的控制
补充资料：磁性材料3．非晶态磁性材料
磁性材料3．非晶态磁性材料
Magnetie Materials 3.AmorPhous
值[20〕。一般回火温度T.与非晶态合金的晶化温度Tct和玻璃化温度几有密切关系。一般说，各类非晶态合金的Ts和叭，之间的差别不大，而热处理温度多在T:或叭r下50~100℃处，时间在30一120~之间。 表‘硅桐片和非.态合金的磁损耗参数l取向硅钢IF一B13一513一eZ率为例，在Bm二0.IT(l .kGs)和f~50kHz时磁化的非晶态合金的井值的时效如图8所示。可以看到，温度高，产下降快，一般是不可逆的。使用温度不太高(例如100℃)时，材料的性能不易变坏，图9给出了两种c。基非晶态合金的八可群与使用时间的关系。当几~80℃时，经历1a的八可群约20%。总的说来，不少非晶态合金在100℃使用温度下可用5~10a。打500 105375片厚，mm电阻率，阁·cm总损Pt，mw/kg磁滞损耗八，mw/kg涡流很耗p.，m、v/比(P.+凡)/Pt0.280 .025 1250。96 98 73 120。872.5.5.时效2040汀一一 .找\岌勺┌─────────────┐│-一一‘啥二‘月卜二‘”’ │├─────────────┤│二，材，分于不 │└─────────────┘图9两种c。基非晶态合金在不同频率下的时效 I一co--M。耳zr合金;1一co一Fe一Si一B合金3.制备方法O州义岌10 102 103 10 时间，s图8两种非晶态合金的产值与时间的关系I一Fe7寻Ni刁MosB17S诬2;l一Co67.SFe刁.SNi3MoZBI‘5112a一200℃时;b一150℃时 非晶态合金在使用时，由于环境温度、时间的延续等，使其性能有不同程度的变化，称之为时效。以磁导3.L薄带 任何金属及其合金在液态时，其原子配位是拓扑无序或短程序的。在冷却过程中，如能维持其高温时的原子分布状态，并使之固化，就得到非晶态固体。要做到这一点，只有在极快的冷却速率下，使熔质由熔点T，以上冷却到玻璃化温度，:以下。这个速率不是固定的，它和生成的非晶态固体的性质、成分和尺寸有很大关系。对于非晶态合金薄带，冷速要在105一1少K/s范围，对于纯金属要高达1 ol0K/s以上，并在远低于室温下才能保存。
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参考词条