1) Siemens protection
西门子保护
1.
Differences between Siemens protection and the other relay protections homemade;
西门子保护与其他国产微机保护的几点区别
2) SIEMENS feeder protection
西门子馈线保护
1.
Narrate the problems existing in the automatic reclosure parameter setting of SIEMENS feeder protection employed in the substations by our company and provide the methods to solve the problems.
叙述了西门子馈线保护在自动重合闸整定中存在的问题 ,并提出了解决的方法。
3) special protection
专门保护
4) guard gate
保护门
1.
A novel guard gate flip-flop(GGFF) design was proposed for mitigating D flip-flop single event effects.
针对D触发器的抗单粒子辐射效应加固,提出了一种新型的保护门触发器(GGFF)设计,使用两个保护门锁存器串接成主从触发器。
5) delectronic profilometer,electronic proximity protection device
电子近门保护装置
6) SIEMENS 802D
西门子802D
1.
The application of SIEMENS 802D NC system on DVT350×20 machine tool rebuilding;
西门子802D数控系统在DVT350×20机床数控改造中的应用
2.
Using Siemens 802D NC system to complete the control of carbon fiber reinforced composite component CNC drilling grinding equipment, expatiating its structure and the setting of main parameters.
采用西门子802D数控系统实现对碳纤维复合材料构件数控钻磨工艺装备的控制,阐述了数控系统的组成及主要参数的设计。
3.
By making a comparison among the high middle economical class CNC system of Siemens and also a comparison between Siemens and Fanuc CNC units, ultimately chose the Siemens 802D CNC unit.
然后,根据用户对机床的状态及工艺要求来选择数控系统,通过对西门子低中高数控系统的纵向比较以及西门子802D系统和法兰克0iB系统的横向比较,最终选择了西门子802D数控单元;在确定了伺服系统技术方案的细节的基础上列出硬件需求订货。
补充资料：硅多晶的西门子法制备
硅多晶的西门子法制备
polycrystalline silicon manufacture by Siemens process
gulduoJ一ng de slmenzlfa zh一be-硅多晶的西门子法制备(polyerystalline 5111-eon manufaeture by Siemens proeess)以三氯氢硅为介质的硅材料超提纯技术，因前联邦德国西门子公司获此专利而得名。是硅多晶生产的最主要方法。该方法的反应原理为经提纯后的SIHC13和超纯氢在反应炉内发生还原反应，使硅在硅芯发热体上沉积从而生长成棒状多晶硅。主要化学反应如下: siHe一3+HZ全些些坚斗51+3Hel 该法的缺点是SIHC13在还原过程中只有约3。%转化为多晶硅，其余多变成SICI、，另外，尾气中的氢气与氯化氢也应利用，因此发展成改良西门子法，将siCll通过氢化变成siHCI。，把尾气经干法回收，将HCI与氢分离，使二者得到利用(图1) 工艺主要包括以下工序。 (1)SIHC13合成。在碳钢制作的合成炉中，0.175一。.116mm(80~12。目)的金属硅粉与无水HCI在沸腾床发生反应生成SIHC13。主要化学反应为: 51+3Hcl一三互)匕二塑三siHcl3十HZ 合成温度过高，特别是HCI中含水量过高，对Si-HCI:产率产生极不利的影响。ha 图1传统的西门子工艺流程示意图 (2)提纯。SIHC13合成产物是一个多组分的混合物，且含有大量杂质。为制备半导体级硅单晶，需对合成产物提纯。首先进行粗馏(碳钢或不锈钢筛板塔，塔板总数大约100块)，除去SICI、和部分杂质，然后进行精馏(多用不锈钢筛板塔，塔板总数约100余块)，以进一步除去其中杂质。为了弥补精馏的不足，有些在精馏前或在精馏过程中还增加吸附或加入络合剂。、巍6 尾气/! 1 1111~~卜仁~v 丫”跳一siHCL’‘H’ 图2西门子式水冷不锈钢多晶还原炉结构示意图 1一硅桥(横梁);2细长棒;3一多晶硅棒;沈水冷不锈钢 钟罩;5一石墨支座;6一绝缘块 (3)还原。经提纯后的SIHCI:与超纯氢在西门子式水冷不锈钢炉内发生还原反应，生长出棒状硅多晶。还原启动采取高压击穿和通过光或电辅助加热以降低击穿电压的两种模式。影响还原转化效率有SIHCI:与氢配比、温度、压力、气体流量和硅芯加热体数量等因素。还原炉结构见图2。(4)尾气处理。尾气经冷凝一压缩~冷冻后，冷凝液用分馏塔分离，气体经活性炭等吸附分离，从而使H:、HCI、SICI、、SIHC13、SIHZC12等分别全部回收，返回生产流程，形成物料闭路循环。 (5)氢化。为了充分利用尾气中的SICI、副产物，发展了SICI、加氢工艺。将金属硅粉与铜触媒加入沸腾炉内，在1.SMPa左右的压力下，siC14与氢反应转化成SIHC13。该工艺在国内称做改良西门子法。化学反应如下: 3SICI、十51+ZH:~4SIHC13转化成的siHC13提纯后返回多晶硅生产工艺。 特点与应用西门子法工艺简单，适合大规模生产。目前，硅多晶直径可做到150一Zoomm、长lm以上，纯度以含硼计达到。.lppba以上。应用于直拉和悬浮区熔法生长硅单晶。 (王顺友)
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参考词条