1) Potentiostatic electro-deposition
恒电位电沉积
2) potentiostatic deposition
恒电位沉积
3) potentionstatic deposition
恒电位沉积法
4) galvanostatic electrodeposition
恒电流沉积
1.
Pd-Ni and Pd-Ag alloy nanowires arrays have been fabricated in the nanopores of anodic aluminum oxide template with 200 nm in diameter and 60 μm in depth by galvanostatic electrodeposition.
在孔深60μm直径200 nm的通孔氧化铝模板中,采用恒电流沉积法制备了钯镍与钯银合金纳米线阵列。
5) deposition potential
沉积电位
1.
7 and [Sn~(2+)]/[S_2O_3~(2-)]=1/5 by varying the deposition potential (E) from-0.
7,离子浓度比[Sn2+]/[S2O32-]=1/5的条件下,通过调节沉积电位在-0。
2.
The relationship between the deposition potentials and the current intensities under different deposition conditions(stirring,temperature,etc.
研究了半导体ＣｄＴｅ薄膜不同阴极电沉积条件（搅拌、加温）下，沉积电位与电流密度、沉积速率的关系。
3.
The effects of deposition potential and Zn(NO3)2 concentration on the deposition process,structure and characteristics of films were also studied.
分析了Zn(NO3)2体系ZnO的电化学沉积机理及反应过程,考察了沉积电位和Zn(NO3)2浓度对沉积过程、薄膜结构及其性能的影响。
6) Underpotential deposition
欠电位沉积
1.
Underpotential deposition (upd) of ruthenium on a platinum electrode was adopted to obtain a submonolayer of ruthenium on platinum surface.
采用欠电位沉积(upd)方法在Pt表面沉积亚单层的Ru制备出upd-Ru/Pt电极。
2.
Electrochemical characterization of irreversibly adsorbed tellurium monolayers on Au substrate and examination of the effect of tellurium adsorbates on the underpotential deposition of tellurium on Au substrate have been performed in this paper.
研究了碲在金衬底上的不可逆吸附行为特征及其对碲原子欠电位沉积行为的影响。
3.
The underpotential deposition(UPD) of Sn2+ on gold disc electrode was studied using cyclic voltammetry.
用循环伏安法研究了Sn2+在金盘电极上的欠电位沉积。
补充资料：恒电位仪
分子式：
CAS号：
性质：或称恒电位仪。在电化学测量中，能控制工作电极电势(相对于一定的参比电极)恒定的仪器，用来测量电流对于电势的响应。当联以信号发生器时，可控制电势随时间按一定程序改变，从而获得各种类型的伏安曲线或电极阻抗数据。现代的恒电势仪都是电子控制的，要求稳定性好，响应快速，能补偿工作电极与参比电极间的欧姆电位降等
CAS号：
性质：或称恒电位仪。在电化学测量中，能控制工作电极电势(相对于一定的参比电极)恒定的仪器，用来测量电流对于电势的响应。当联以信号发生器时，可控制电势随时间按一定程序改变，从而获得各种类型的伏安曲线或电极阻抗数据。现代的恒电势仪都是电子控制的，要求稳定性好，响应快速，能补偿工作电极与参比电极间的欧姆电位降等
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条