1) fungus-resistant
抗霉
1.
The fungus-resistant materials,fungus-resistant painting,and organic anti-fungus agents usually used were enumerated.
根据霉菌生长的条件,从产品的结构设计、材料选取、工艺防护、使用防霉剂等方面对提高军用电子装备防霉抗霉能力进行了阐述,并列举了常用的抗霉材料、防霉涂料和有机防霉剂。
2) Streptomyces antifungus
抗霉链霉菌
1.
(YIM32065~T and YIM33176),Streptomyces antifungus sp.
),YIM35551T定名为抗霉链霉菌新种(Streptomycesantifungussp。
3) mold resistance
抗霉性;抗霉力
4) Anti mould and anti stain
抗霉变
5) antifungal test
抗霉试验
1.
The fungus growth on carbon-free culture medium in photocatalyst antifungal test did not inf.
结论,光触媒抗霉试验:制备霉菌孢子用马铃薯蔗糖培养基;抗霉试验用培养基选择基础无碳源培养基;使用霉菌孢子悬液浓度为104cfu/m l;试验载体为纯棉布片;采用6 W日光灯照射;试验在温度28℃、相对湿度90%条件下,培养观察14~28 d。
6) antifungal efficacy
抗霉效果
1.
In order to study the method for evaluating the antimicrobial efficacy of photocatalyst,fungi were used as the antimicrobial object and different carriers,culture media and test fungal concentrations were used to observe their influences on antifungal efficacy.
为研究光触媒抗菌效果评价方法,以霉菌为抗菌对象,用不同载体、培养基和染菌浓度对抗霉效果影响进行了试验观察。
补充资料：多抗霉素
分子式：
CAS号：
性质：又称多抗霉素，多效霉素。一类由土壤中的放线菌产生的抗菌素。因结构式中的R1，R2，R3不同，而有十多种多氧菌素。多氧菌素A:R1=CH2OH，R2=多氧菌素B:R1=CH2OH，R2=R3=OH，旋光度+34°(c=1.03，H2O)。多氧菌素D:R1=COOH，R2=R3=OH，分子量521.39，熔点>190℃(分解)，旋光度+30°(c=1，H2O)。其主要作用是破坏植物病原菌细胞壁的形成，如多氧菌素D对稻纹枯病菌有抗菌活性，而B则对梨树的黑斑病有疗效。
CAS号：
性质：又称多抗霉素，多效霉素。一类由土壤中的放线菌产生的抗菌素。因结构式中的R1，R2，R3不同，而有十多种多氧菌素。多氧菌素A:R1=CH2OH，R2=多氧菌素B:R1=CH2OH，R2=R3=OH，旋光度+34°(c=1.03，H2O)。多氧菌素D:R1=COOH，R2=R3=OH，分子量521.39，熔点>190℃(分解)，旋光度+30°(c=1，H2O)。其主要作用是破坏植物病原菌细胞壁的形成，如多氧菌素D对稻纹枯病菌有抗菌活性，而B则对梨树的黑斑病有疗效。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条