1) Ion implantation diffusion
离子注入扩散
2) diffusion and electronic implantation
扩散与电子注入
3) Ion diffusion
离子扩散
1.
The Research and Development of Ion Diffusion in Soils
土壤中离子扩散研究进展
2.
Ion diffusion kinetics in soils can be classified into three types:negative first-order, zero-order and first-order kinetics.
本文首先从理论上分析了土壤中离子扩散的动力学问题，提出了土壤中离子扩散的三种动力学类型，即扩散的一级动力学、零级动力学和负一级动力学，并且还指出，一级动力学是土壤中离于扩散的普遍形式，负一级动力学只出现在过程的初期阶段，而扩散的零级动力学则存在于有快速表面反应的情况下。
3.
Experimental results show that,the excursion of the peak potential of CV curves is caused by ion diffusion in three-dimensional MRGC film electrodes;the ion diffusion resistance in electrode decreases with the increase of thickness of graphite matrix,this leads to the decrease of ΔE_p with the increase of spacing between graphite cores.
研究结果表明,由于三维MRGC膜电极系统内部离子扩散影响,CV图的峰电位将发生偏移。
5) diffusion ion
扩散离子
6) ion implantation
离子注入
1.
Study on characteristics and technology of ion implantation-assisted electroless copper plating films on Al_2O_3 ceramics;
离子注入辅助Al_2O_3陶瓷表面化学镀镀层特性研究
2.
Application of ion implantation and D-gun spraying technology to improve Operation life for jet element of fluid efflux hammer;
应用离子注入和爆炸喷涂技术提高液动锤射流元件寿命
3.
Application of low energy ion implantation in breeding of high yield CGTase strains;
低能离子注入在CGTase高产菌株选育中的应用
补充资料：离子注入（ionimplantation）
离子注入（ionimplantation）
用离子加速器将各种离子注入半导体材料，从而改变半导体材料的电学、光学或其他物理性质的半导体工艺技术，称为离子注入技术。自从20世纪70年代以来离子注入技术在半导体器件制备工艺中获得了广泛应用，是半导体器件工艺的最主要技术之一。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条