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1)  micro/nano positioning
微纳米定位
2)  Nanopositioning
纳米级微定位
1.
A novel 2 DOF nanopositioning stage drived by PZT is developoed.
研究开发了一种新型压电驱动二自由度纳米级微定位工作台。
3)  nanometer positioning
纳米定位
1.
High-gain PID controller for nanometer positioning;
高增益PID控制器实现纳米定位
2.
Based on understanding of their characteristics,development of nanometer positioning is proposed.
通过对现有几种具有纳米分辨率的驱动系统进行比较,分析了各种定位系统的特点,展望了纳米定位技术的发展方向。
3.
A high gain PID controller is designed and it is powerful enough to suppress the effect of friction and realize nanometer positioning.
通过设计高增益PID控制器,可以抑制摩擦的影响并在大范围内实现纳米定位,只是系统的性能受到执行机构饱和的影响。
4)  nano-positioning
纳米定位
1.
Research of dynamic error compensation for nano-positioning system based on grey model;
纳米定位系统动态误差灰色模型补偿方法研究
2.
The Research on Some Key Techniques of Long Stroke Nano-positioning System;
大行程纳米定位系统若干关键技术研究
3.
Design and Analysis on Nano-positioning Micro Displacement Worktable Driven by Piezoelectric Ceramic Linear Motion Actuator
三维纳米定位微动平台的设计与分析
5)  nanopositioning
纳米定位
1.
At the Institute of Process Measurement and Sensor Technology of Technical University of Ilmenau, a three-dimensional nanopositioning and nanomeasuring machine (NPM-Machine) has been developed.
伊尔梅瑙工业大学过程测量和传感技术研究所研制了三维纳米定位和测量机 (NPMM ) 。
2.
The principle of polarimetric interferometer used for nanopositioning was presented;and the displacement control method based on this polarimetric inerferometer was introduced.
详细阐述了用于纳米定位的偏振激光干涉仪的原理,并介绍了基于该偏振仪的纳米定位控制方法。
6)  nano-positioning stage
纳米级定位平台
1.
In order to realize the miniaturized nano-positioning stage,a novel 2-DOF Single Crystal Silicon(SCS) nano-positioning micro x-y stage with the function of displacement detection was successfully developed using silicon bulk machining.
针对纳米定位平台的构型和定位精度问题,采用体硅加工技术成功地研制了一种基于单晶硅并带有位移检测功能的新型二自由度纳米级定位平台。
补充资料:看纺织印染中应用纳米材料和纳米技术

纺织印染中应用纳米材料和纳米技术时,除了要解决纳米材料的制备技术之外,重要的是要解决好纳米材料的应用技术,其中关键问题是使纳米粒子和纺织印染材料的基本成分(即聚合物材料)之间处于适当的结合状态。印染中,纳米粒子在聚合物基体中的分散和纳米粒子在聚合物表面的结合是主要的应用技术问题。  


    制备聚合物/无机纳米复合材料的直接分散法,适用于各种形态的纳米粒子。印染中纳米粒子的使用一般采用直接分散法。但是由于纳米粒子存在很大的界面自由能,粒子极易自发团聚,利用常规的共混方法不能消除无机纳米粒子与聚合物基体之间的高界面能差。因此,要将无机纳米粒子直接分散于有机基质中制备聚合物纳米复合材料,必须通过必要的化学预分散和物理机械分散打开纳米粒子团聚体,将其均匀分散到聚合物基体材料中并与基体材料有良好的亲和性。直接分散法可通过以下途径完成分散和复合过程:  


    高分子溶液(或乳液)共混:首先将聚合物基体溶解于适当的溶剂中制成溶液(或乳液),然后加入无机纳米粒子,利用超声波分散或其他方法将纳米粒子均匀分散在溶液(或乳液)中。有人将环氧树脂溶于丙酮后加入经偶联剂处理过的纳米TiO2,搅拌均匀,再加入 40wt%的聚酰胺后固化制得了环氧树脂/TiO2纳米复合材料。还有人将纳米SiO2粒子用硅烷偶联剂处理后,改性不饱和聚酯。  


    熔融共混:将纳米无机粒子与聚合物基体在密炼机、双螺杆等混炼机械上熔融共混。如将PMMA和纳米SiO2粒子熔融共混后,双螺杆造粒制得纳米复合材料。又如利用偶联剂超声作用下处理纳米载银无机抗菌剂粒子,分散制得PP/抗菌剂、PET/抗菌剂、PA/抗菌剂等复合树脂,然后经熔融纺丝工艺加工成抗菌纤维。研究表明,将经过表面处理的纳米抗菌剂粒子通过双螺杆挤出机熔融混炼,在聚合物中可以达到纳米尺度分散,获得了具有良好综合性能的纳米抗菌纤维,对大肠杆菌、金黄色葡萄球菌的抗菌率达到95%以上(美国AATCC-100标准)。  


    机械共混:将偶联剂稀释后与碳纳米管混合,再与超高分子量聚乙烯(UHMWPE)混合放入三头研磨机中研磨两小时以上。将研磨混合物放入模具,热压,制得功能型纳米复合材料。  


    聚合法:利用纳米SiO2粒子填充(Poly(HEMA))制备了纳米复合材料。纳米SiO2粒子首先被羟乙基甲基丙烯酸(HEMA)功能化,然后与HEMA单体在悬浮体系中聚合。还有利用SiO2胶体表面带酸性,加入碱性单体4-乙烯基吡咯进行自由基聚合制得包覆型纳米复合材料。

说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条