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1)  crystal growing process
晶体生长过程
2)  process of the chemical vapor deposition(CVD)in crystal growth
晶体生长的化学气相淀积过程
3)  Growth process of bioherm
礁体生长过程
4)  crystalline films growth process
晶态薄膜生长过程
5)  Growth process
生长过程
1.
Microstructure and in-situ growth process of insulating films on TiNi shape memory alloys;
TiNi形状记忆合金表面绝缘膜的原位生长过程和相结构
2.
Analysis on the Growth Process of Rare Plants Cercidiphyllum japonicum;
太行山南麓连香树的生长过程分析
3.
Analysis on the growth process of Acronychia pedunculata in Baiyunshan Resort;
乡土树种山油柑的生长过程分析
6)  growing process
生长过程
1.
The study of heat thermograms in yeast growing process;
酵母生长过程的热谱研究
2.
Mathematical Simulation of Billet Profile Growing Process and Structure Prediction during Spray Forming Process;
喷射成形沉积坯生长过程数值模拟和组织预测
补充资料:晶体生长输运过程


晶体生长输运过程
transport processes in crystal growth

运,结晶才能继续。 晶体生长中的翰运问题,数学上是在一定的边值条件下,求解热量和质量传输的偏微分方程。1891年工斯武藩(Stefan)首先研究了北极海上冰层厚度的生长速率问题,因此把这类问题称为斯戒藩问题。斯戒藩问题的特征是随着晶体生长,其界面是移动的。由于传输方程是非线性的,求解方程在数学上遇到了困难,只有少数几种情况,才能求得斯式藩问题的解析解。于是往往采用简化模型、实验模拟、数值计算等近似方法来处理问题。 热t、质t传输方程一般的生长系统(如熔体生长系统),不是等温等浓度系统,晶体与流体中存在温度和浓度梯度,必然引起热量和质量的扩散(传导)传输。在流体中,除了分子无规运动引起的扩散外,还存在热量和质量的对流传输机制。例如,由于温度不均匀产生的比容差异,在重力场中引起的自然对流,晶体和柑锅旋转引起的强迫对流以及流体的宏观流动等。根据能量守恒和质量守恒原理,分别得到热量和质量传输方程、、︵19曰‘‘+(u·V)T=k甲ZT71一三不‘刁一一口口T.,_。、。_。。,。一二-一丁一月r又“’V夕七一Z少V“LJ口t两式中左边第一项分别为温度、溶质浓度对时间变化率,第二项是流体宏观流动速率“引起的对流传输;右边是扩散(传导)引起的热量和质量传输,k为热扩散系数,D为溶质扩散系数。两方程有相似的形式,但它们在界面上的边值条件则不相同。在界面上温度是连续的,而界面上溶质浓度是不连续的。 扩散传翰方程及其解只考虑扩散传输,则方程(1)、(2)就成为热传导方程和溶质扩散方程。对熔体生长系统,在晶体生长过程中,若固液界面及其他等温面都为平面,则热扩散方程可简化为一维方程。同样,若熔体中等浓度面与固液界面是平行的平面,则溶质扩散传输方程也简化为一维方程。于是得到1、qo月任‘了‘口T日t夕C刁t一,护T一左一二一不 口之‘一。夕ZC一刀一一叹~万石一 口之“┌──┬────┐│晶体│一刀熔体│└──┴────┘护一z厂一之 (、 图1一维生长系统模型液柱结晶模型(图1)。
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