1) automobile design rule
汽车设计规则
2) design rule
设计规则
1.
Algorithm of TC~2CLA (Top-level Carry Cascade Carry Lookahead Adders) and its design rule;
顶层进位级联CLA的算法与设计规则
2.
The optimal design rule of CLA was inducted from power dissipation and area constraint,reflect.
并与功耗、面积约束一起 ,归纳出超前进位加法器的优化设计规则 。
3.
Expatiates on the design rule of OPGW based on the real requirements of OPGW engineer applications.
从OPGW工程应用的实际出发,详细地阐述了不锈钢管OPGW的设计规则,并给出了设计过程中的若干限定条件以及几种特殊的不锈钢管OPGW的边界条件。
4) design rules
设计规则
1.
By defining and zooming out the design rules based on design requirements with the concept generator in VCM1.
根据设计要求 ,通过定义和细化设计规则 ,运用所研制的三维虚拟机械创新设计 VCM1。
2.
This article analyze the reason that easily cause circuit complication in VHDL design from description,design rules and logical functon.
从描述方法、设计规则、逻辑函数分析了VHDL设计中容易引起电路复杂化的原因,并提出了相应的解决方法。
3.
The theory and method of the layout design of integrated circuits were introduced So did the characters of the layout design rules By explaining the layout of an operational amplifier, the specific steps and principles of layout design were clearly illustrate
首先在理论上介绍了集成电路版图设计方法的详细步骤以及设计规则的特点。
5) vehicle design
汽车设计
1.
In order to introduce MDO into vehicle design,this paper puts forward a modularization-based MDO method and the idea of Collaborative Optimization to resolve the problems in design.
对多学科优化设计的基本理论、应用研究及发展进行了综述分析;将多学科优化设计方法引入到汽车设计中,提出一种基于模块化的MDO方法的设计思路及其相应的协同优化求解思路。
2.
In view of the special features in the design of a complicated vehicle system which involves many disciplines, a new methodology for the design of vehicles by using multidisciplinary design optimization (MDO) is presented, and a relevant analysis of MDO s application to vehicle design is also given in detail.
汽车设计是一项复杂的系统工程。
3.
Finally some application examples of numerical simulation in vehicle design are presented with the measures for reducing aerodynamic noise given.
最后介绍了该数值仿真方法在汽车设计中的应用以及降低气动噪声的措施。
6) car design
汽车设计
1.
Then, a car design system is created,and the process has been specified.
介绍了虚拟现实技术的基本知识以及虚拟现实软件EON Studio的基本工作原理及其脚本节点的应用,以某汽车模型为应用对象,建立了1个基于EON Studio的汽车设计系统,详细叙述了整个系统的创建过程。
补充资料：集成电路版图设计规则
集成电路版图设计规则的作用是保证电路性能，易于在工艺中实现，并能取得较高的成品率。版图设计规则通常包括两个主要方面：①规定图形和图形间距的最小容许尺寸；②规定各分版间的最大允许套刻偏差。
集成电路制作中，各类集成元件、器件及其间的隔离与互连等是在一套掩模版的控制下形成的。一套掩模版通常包括 4～10块分版。每一块分版是一组专门设计的图形的集合，整套版中的各分版相互都要能精密地配合和对准。整套掩模版图形(简称版图)的设计，是把电路的元件、器件和互连线图形化，用它来控制制备工艺，使集成电路获得预期的性能、功能和效果。例如，增强型负载硅栅N沟道MOS型集成电路需要4块分版,分别用以确定有源区、多晶硅、接触孔和铝连线。4组图形的规则是：
有源区条宽与间距
6μm/6μm
多晶硅条宽与间距
8μm/6μm
接触孔尺寸
6μm×6μm
铝连线条宽与间距
6μm/6μm
多晶硅-有源区套刻量(ɑ)
2μm
多晶硅出头长度(b)
4μm
接触孔-有源区套刻量(c)
2μm
接触孔-有源区上多晶硅套刻量(d) 4μm
接触孔-隔离区上多晶硅套刻量(e) 2μm
铝连线-接触孔套刻量(f)
2μm
不同类型的集成电路所需要的分版数不同，具体的版图设计规则也有差异。但制定版图设计规则的基本原则则是一致的:①需要考虑工艺设备状况(如光刻机的分辨率和对准精度)和工艺技术水平（如工艺加工中,图形尺寸侧向变化量和控制）；②避免寄生效应对集成电路的功能与电学性能的有害影响。
通常称允许的最小图形尺寸的平均值为特征尺寸。它是对集成电路集成密度的度量，是集成电路工艺技术水平的一种标志。
集成电路制作中，各类集成元件、器件及其间的隔离与互连等是在一套掩模版的控制下形成的。一套掩模版通常包括 4～10块分版。每一块分版是一组专门设计的图形的集合，整套版中的各分版相互都要能精密地配合和对准。整套掩模版图形(简称版图)的设计，是把电路的元件、器件和互连线图形化，用它来控制制备工艺，使集成电路获得预期的性能、功能和效果。例如，增强型负载硅栅N沟道MOS型集成电路需要4块分版,分别用以确定有源区、多晶硅、接触孔和铝连线。4组图形的规则是：
有源区条宽与间距
6μm/6μm
多晶硅条宽与间距
8μm/6μm
接触孔尺寸
6μm×6μm
铝连线条宽与间距
6μm/6μm
多晶硅-有源区套刻量(ɑ)
2μm
多晶硅出头长度(b)
4μm
接触孔-有源区套刻量(c)
2μm
接触孔-有源区上多晶硅套刻量(d) 4μm
接触孔-隔离区上多晶硅套刻量(e) 2μm
铝连线-接触孔套刻量(f)
2μm
不同类型的集成电路所需要的分版数不同，具体的版图设计规则也有差异。但制定版图设计规则的基本原则则是一致的:①需要考虑工艺设备状况(如光刻机的分辨率和对准精度)和工艺技术水平（如工艺加工中,图形尺寸侧向变化量和控制）；②避免寄生效应对集成电路的功能与电学性能的有害影响。
通常称允许的最小图形尺寸的平均值为特征尺寸。它是对集成电路集成密度的度量，是集成电路工艺技术水平的一种标志。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条