1) tungsten film
钨膜
2) tungsten foil
钨箔膜
3) tungsten oxide thin film
氧化钨薄膜
1.
X-ray photoelectron spectrum (XRS) show that there are three main kinds of stoichiometry tungsten oxide in tungsten oxide thin film prepared by r.
由于薄膜沉积过程中缺乏氧气,溅射得到的是化学配比偏离WO3的氧化钨薄膜,本文详细研究了不同电压下,R。
4) tungsten carbide thin film
碳化钨薄膜
1.
Typical field emission patterns of tungsten carbide thin film is observed,and its I V behavior and Fowler Nordheim plot is measured.
在 1× 10 -6～ 10 -5Pa环境压强下 ,经过高温退火处理 ,在钨针尖上形成了碳化钨薄膜 ,利用场发射显微镜观察到清楚的钨单晶基底上碳化钨薄膜的场发射图像 ;对碳化钨薄膜的场发射I V特性及Fowler Nordheim曲线进行测量和计算 ;用透射电镜测得针尖曲率半径并估算出比例因子 β ,利用Fowler Nordheim公式计算得到碳化钨薄膜的逸出功约为 3 79eV 。
5) zirconium tungstate thin films
钨酸锆薄膜
6) peroxopolytungstic acid thin film
过氧聚钨酸薄膜
补充资料：蓝钨氢还原(见仲钨酸铵氢还原)
蓝钨氢还原(见仲钨酸铵氢还原)
hydrogen reduction of blue tung sten compound
Ianwu qing huanyuan蓝钨氮还原(hydrogen reduetion of bluetungsten compound)见仲钨酸按氮还原。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条