1) EUV filter
EUV滤光片
2) EUV light source
EUV光源
3) EUV GRATING
EUV光栅
4) EUV lithography
EUV光刻
1.
Furthermore,EUV lithography,maskless lithography and nano-imprint lithography will become the main study topics for 22 nm and 16 nm.
指出90nm节点的主流光刻技术是193nmArF光刻;193nm浸入式光刻技术作为65nm和45nm节点的首选光刻技术,如果配合二次曝光技术,还可以扩展到32nm节点的应用,但成本会增加;如果特征尺寸缩小到22nm和16nm节点,EUV光刻、无掩模光刻以及纳米压印光刻等将成为未来发展的重要研究方向。
5) EUV lithography technicque
EUV光刻技术
6) filter
[英]['fɪltə(r)] [美]['fɪltɚ]
滤光片
1.
Photorejuveantion technology and the relative filter;
光子嫩肤技术及相关滤光片
2.
Integrated filter array fabricated by using the combinatorial deposition technique;
组合镀膜法制备集成滤光片列阵
3.
Striation Filter and its Optimization Method;
条纹式滤光片及其优化方法
补充资料：初级滤光片
分子式：
CAS号：
性质：又称第一滤光片。在一些光谱仪器中，从光源听来的辐射，还未射入单色器之前，先经过一个滤光片，对光源辐射进行初步的波长选择。
CAS号：
性质：又称第一滤光片。在一些光谱仪器中，从光源听来的辐射，还未射入单色器之前，先经过一个滤光片，对光源辐射进行初步的波长选择。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条