1) deep etching
深刻蚀
1.
Inductively coupled plasma(ICP) deep etching process of bulk titanium was studied in this paper.
采用电感耦合等离子体源(inductively coupled plasma,ICP)技术对金属钛进行三维深刻蚀,采用不同刻蚀掩模、氯基刻蚀气体,研究了线圈功率、平板功率和Cl2流量对刻蚀速率和选择比等工艺参数的影响,并对Ti深刻蚀参数进行了优化,得到0。
2.
Many MEMS structures need twice deep etching or even more,and usually the free-handing diaphragm is achieved after several deep etching.
许多MEMS结构需要进行2次或2次以上的深刻蚀,有些需要在多次深刻蚀后释放超薄的悬空薄膜结构,这时薄膜表面极易出现微小的腐蚀孔。
3) deep etch
深刻蚀
1.
In this paper, we investigate and present the law of diffractive efficiency versus fabrication error of deep etched binary optics, and compare differences of the law between the deep etched and the ordinary binary optics technologies.
用计算机研究并给出了深蚀刻二元光学元件制作误差对衍射效率影响的规律；将深刻蚀二元光学元件与一般二元光学元件制作误差规律的不同之处进行了分析说明；提出了深刻蚀二元光学元件制作误差规律的经验公
4) Deeply-etched
深刻蚀
1.
Design of a Compact Multimode Interference Power Splitter Based on Deeply-etched SiO_2 Ridge Waveguide;
基于深刻蚀SiO_2脊型波导的紧凑型多模干涉功分器
5) etching depth
刻蚀深度
1.
The relation of energ/etching depth is obtained.
根据Grune公式就电子束能量对抗蚀剂刻蚀深度的影响进行了理论分析,并在SDS-2电子束曝光机上分别采用5keV、10keV、15keV、20keV、25keV、30keV等能量的电子束对国产胶苏州2号进行了曝光实验,得出了能量/刻蚀深度关系曲线。
2.
The etching depth of the circles showed a decreasing trend in the same processing conditions.
比较了相同实验条件下直线轨迹与圆环轨迹的刻蚀深度。
补充资料：深刻
深刻 在涂好漆灰，上过推光漆的器面上，根据画稿铲去漆面及漆灰，表现出图画形象的轮廓线，再在铲去的部位上涂白粉，加各种彩色，然后浸以油类使之固著的一种装饰技法。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条