1) yttrial-stabilized zirconia films
氧化钇稳定氧化锆薄膜
1.
The residual stress in yttrial-stabilized zirconia films was measured ZYGO Mark Ⅲ-GPI digital wavefront interferometer.
利用ZYGOMarkⅢ-GPI数字波面干涉仪对氧化钇稳定氧化锆薄膜的残余应力进行了研究,讨论了沉积温度对残余应力的影响。
2) Y_2O_3-doped ZrO_2 film
掺钇氧化锆薄膜
3) YSZ
钇稳定化氧化锆
1.
Study on the Properties of YSZ Electrolyte Fabricatedby Plaster Casting Method;
注浆成型法制备的钇稳定化氧化锆电解质性能研究
2.
The yttria stabilized zirconia (YSZ) porous ceramic tubes with a porosity of 49 0%~64 1% were fabricated by slip casting method with YSZ powder as the aggregate, arabic gum as the dispersant and the binder, and optimized corn meal as the pore forming agent.
以钇稳定化氧化锆 (YSZ)为骨料 ,优选出玉米粉为成孔剂 ,阿拉伯树胶为分散剂和粘结剂 ,采用注浆法制备出孔隙率为 49。
3.
The stability of suspension made of 8% yttria stabilized zirconia (YSZ) micro size powder with 4% Al 2O 3 added and arabic gum as the dispersant was studied.
研究摩尔分数为 8%的钇稳定化氧化锆 ( YSZ)微粉添加质量分数为 4%的 Al2 O3 ,并以阿拉伯树胶为分散剂所制备的料浆的稳定性 。
4) yttrium stabilized cubic zirconia films
钇稳定立方相氧化锆薄膜
5) Yttrium stabilized zirconia(YSZ)
钇稳定氧化锆(YSZ)
补充资料：氧化锆-氧化钇红外陶瓷
分子式： ZrO2-Y2O3
CAS号：
性质：一种以二氧化锆为基体固溶6％～8％(mol)氧化钇的红外光学材料。立方晶结构。熔点2700℃。密度5.98g/cm3。红外透射波段1～10μm。采用1450℃以上高温烧结或1300～1700℃，50～300MPa热压制取。用于制造耐高温红外窗口和整流罩。
CAS号：
性质：一种以二氧化锆为基体固溶6％～8％(mol)氧化钇的红外光学材料。立方晶结构。熔点2700℃。密度5.98g/cm3。红外透射波段1～10μm。采用1450℃以上高温烧结或1300～1700℃，50～300MPa热压制取。用于制造耐高温红外窗口和整流罩。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条