1) magnetization sanitization
磁化消毒
3) chlorine disinfection
氯化消毒
1.
Based on existing problems in chlorine disinfection process,improvements were suggested from four aspects-setup of chlorination point,appropriately choice of chlorine dosage,mixing efficiency of chlorination,controlling measure of adding chlorine in order to enhance disinfection efficiency,reduce disinfection by-products and control production cost.
针对氯化消毒工艺现存的主要问题,分别从加氯点的设置、加氯量、加氯混合效果、加氯系统控制手段四个方面提出了改进措施,以达到提高消毒效率、减少氯消毒副产物、控制生产成本的目的。
4) Chlorination
[英][klɔ:ri'neiʃn] [美][klorɪ'neʃn]
氯化消毒
1.
The Effects of Typical Nitrogenous Compounds on Haloacetonitriles Production and Chlorine Demand in Drinking Water Chlorination;
以滤后水为本底,研究了其在氯化消毒过程中卤乙腈(HANs)的生成量,并考察了投氯量和pH值的影响。
5) digestive poison
消化毒剂
1.
The concept of digestive poison and the characteristics of digestive poison are discussed.
本文在扼要综述现有杀虫剂或杀虫活性物质的作用机制的基础上，提出消化毒剂的概念，并讨论了消化毒剂的特点及天然作物作为害虫控制剂的可能性。
6) oxidation-disinfect
氧化消毒
补充资料：磁化过程
使原来不显示磁性的物体在磁场中获得磁性的过程。理论和实验证明，一块状铁磁体在磁中性状态下分为若干自发磁化区域,即磁畴。当外磁场H＝0时,各磁畴的合磁矩等于零 (1)
式中Vi是第i个磁畴的体积，θi是第i个磁畴的磁矩Ms与某一特定方向（如磁场方向）间的夹角。
当加上外磁场时,铁磁体被磁化，沿H方向出现磁化强度δMH，由式(1)得 (2)
上式中的第一项表示各磁畴中的Ms的大小和方向不变，而畴的体积发生变化。自发磁化强度Ms的方向靠近H的那些磁畴长大，而Ms的方向与H的夹角大的那些磁畴缩小。这一过程是通过磁畴间界壁（即磁畴壁）的位移实现的，故称为畴壁位移过程，简称壁移过程。第二项表示各畴的Ms的大小及体积Vi不变, 但Ms的方向改变,转向外磁场H的方向,故称为磁畴转动过程,简称畴转过程。通过壁移及畴转过程,Ms完全沿H方向取向, 此时达到技术磁饱和。技术饱和磁化强度就等于该温度下的自发磁化强度。壁移和畴转过程有可逆和不可逆两种。第三项表示Ms本身数值的增加。这是由于强磁场的作用克服了热扰动的影响，使单位体积内平行于磁场的自旋磁矩数增加。此过程与顺磁性有类似之处，故称为顺磁过程。在极强的磁场中，铁磁体的磁化强度趋于其绝对零度时的自发磁化强度值。一般情况下顺磁过程对磁化强度的增加贡献很小，所以铁磁体磁化曲线的进程主要取决于前两种技术磁化过程。一般地说，在弱磁场中，壁移过程占主导，接着是畴转过程，只有在强磁场中才有较明显的顺磁过程。
附图示出铁型晶体磁化过程的示意图。在起始状态（0点）,样品中形成闭合的磁畴结构。加上磁场后,在弱场范围(0-a)发生可逆壁移过程，磁化强度随H的变化缓慢。当H增大到磁化曲线比较陡峻的区域(a-b)，发生不可逆壁移过程,出现阶跃式的磁化(称为巴克好森跳跃)。在曲线拐点处(c点),样品处于单磁畴状态，磁场再增大时，依次发生畴转过程及顺磁过程。
参考书目
郭贻诚编著:《铁磁学》,高等教育出版社,北京,1965。
北京大学物理系"铁磁学"编写组编:《铁磁学》,科学出版社，北京，1976。
李荫远、李国栋编：《铁氧体物理学》，修订版，科学出版社，北京，1978。
戴礼智编著：《金属磁性材料》,上海人民出版社,上海，1973。
式中Vi是第i个磁畴的体积，θi是第i个磁畴的磁矩Ms与某一特定方向（如磁场方向）间的夹角。
当加上外磁场时,铁磁体被磁化，沿H方向出现磁化强度δMH，由式(1)得 (2)
上式中的第一项表示各磁畴中的Ms的大小和方向不变，而畴的体积发生变化。自发磁化强度Ms的方向靠近H的那些磁畴长大，而Ms的方向与H的夹角大的那些磁畴缩小。这一过程是通过磁畴间界壁（即磁畴壁）的位移实现的，故称为畴壁位移过程，简称壁移过程。第二项表示各畴的Ms的大小及体积Vi不变, 但Ms的方向改变,转向外磁场H的方向,故称为磁畴转动过程,简称畴转过程。通过壁移及畴转过程,Ms完全沿H方向取向, 此时达到技术磁饱和。技术饱和磁化强度就等于该温度下的自发磁化强度。壁移和畴转过程有可逆和不可逆两种。第三项表示Ms本身数值的增加。这是由于强磁场的作用克服了热扰动的影响，使单位体积内平行于磁场的自旋磁矩数增加。此过程与顺磁性有类似之处，故称为顺磁过程。在极强的磁场中，铁磁体的磁化强度趋于其绝对零度时的自发磁化强度值。一般情况下顺磁过程对磁化强度的增加贡献很小，所以铁磁体磁化曲线的进程主要取决于前两种技术磁化过程。一般地说，在弱磁场中，壁移过程占主导，接着是畴转过程，只有在强磁场中才有较明显的顺磁过程。
附图示出铁型晶体磁化过程的示意图。在起始状态（0点）,样品中形成闭合的磁畴结构。加上磁场后,在弱场范围(0-a)发生可逆壁移过程，磁化强度随H的变化缓慢。当H增大到磁化曲线比较陡峻的区域(a-b)，发生不可逆壁移过程,出现阶跃式的磁化(称为巴克好森跳跃)。在曲线拐点处(c点),样品处于单磁畴状态，磁场再增大时，依次发生畴转过程及顺磁过程。
参考书目
郭贻诚编著:《铁磁学》,高等教育出版社,北京,1965。
北京大学物理系"铁磁学"编写组编:《铁磁学》,科学出版社，北京，1976。
李荫远、李国栋编：《铁氧体物理学》，修订版，科学出版社，北京，1978。
戴礼智编著：《金属磁性材料》,上海人民出版社,上海，1973。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
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