1) Metal ion implantation
金属离子注入
1.
The electrical properties of PET have been improved by metal ion implantation.
注入层的结构的变化和新相的形成引起了聚合物表面物理和化学特性的改变，进而讨论了金属离子注入聚酯膜的改性机理。
2.
They are characterized by high flux metal ion implantation and have developed rapidly in the past decade.
MEVVA源金属离子注入技术和金属等离子体浸没注入技术MePIII的共同特性是强流金属离子注入。
3.
The metal ion implantation technology takes an important role in the industrial production.
这项金属离子注入技术在工业生产发展中正发挥着重要的作用 ,并阐述了MEVVA离子注入新技术在工业化应用中的特
2) dual implantation
C和金属离子双注入
3) Metal plasma immersion ion implantation and deposition
金属等离子体浸没离子注入与沉积
4) Metal plasma based ion implantation
金属等离子体基离子注入
补充资料：离子注入（ionimplantation）
离子注入（ionimplantation）
用离子加速器将各种离子注入半导体材料，从而改变半导体材料的电学、光学或其他物理性质的半导体工艺技术，称为离子注入技术。自从20世纪70年代以来离子注入技术在半导体器件制备工艺中获得了广泛应用，是半导体器件工艺的最主要技术之一。
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参考词条