1) Fluoride-resistant strain
耐氟菌株
1.
The effect of chlorhexidine on the growth of S.mutans, S.sobrinus and their fluoride-resistant strains;
洗必泰对变形链球菌、远缘链球菌耐氟菌株与亲代菌株生长抑制的测定
2.
The genomic differences between the fluoride-resistant strains of streptococcus mutans and streptococcus sobrinus and their parental strains by REA;
变形链球菌、远缘链球菌耐氟菌株与亲代菌株基因组REA的比较分析
3.
RESULTS: The fluoride-resistant strains demineralized enamel less than did their parent, wild-type strains when on fluoride existed; whereas the result was opposite in the presence of 0.
方法 :采用原子吸收分光光度计 ,测定不同氟浓度条件下变形链球菌耐氟菌株培养物上清液中钙离子浓度 ,并与亲代菌株进行比较。
2) Fluoride-resistant strains
耐氟菌株
1.
Methods: Fluoride-resistant strains of Streptococcus sobrinus 6715 was induced by increasing the concentration of fluoride in the TSA step by step.
6715)及其耐氟菌株的适应性耐酸能力。
2.
Objective In order to demonstrate the idiotypic variation between fluoride-resistant strains and their pa- rent strains, ATPase gene sequence analysis was carried out.
目的对变型链球菌耐氟菌株及其亲代菌株的胞膜ATP酶基因进行DNA序列分析。
3) the fluoride-resistant strain
耐氟菌株
1.
Objective:To detect the mutation of the acid-resistant genedltcin the fluoride-resistant strain of Streptococcus mutans and to suppose the significance of the gene mutation.
目的:检测变形链球菌耐氟菌株中耐酸相关基因dltc是否发生突变并推测该基因对变形链球菌耐氟菌株的影响。
2.
PURPOSE:To detect the acid-resistant gene fhs in the fluoride-resistant strain of Streptococcus mutans and clone it.
目的:检测变形链球菌耐氟菌株耐酸相关基因fhs是否发生突变并对其克隆测序。
4) Fluoride resistant Streptococcus mutans
变形链球菌耐氟株
1.
Effects of Fluoride and pH on Proton translocating Membrane ATPase Activity of Fluoride resistant Streptococcus mutans in vitro;
变形链球菌耐氟株质子移位ATP酶活性的体外研究
5) oxygen-resisting strain
耐氧菌株
6) MDR
耐药菌株
1.
METHODS Isolating,culturing and identifying 1201 clinical infectious specimens, to survey multiple drug resistance(MDR) in main isolated bacteria.
方法 12 0 1例临床感染标本分离培养鉴定后 ,监测常见分离菌的耐药菌株 (MDR)。
补充资料：光敏耐腐蚀耐电镀印料
分子式：
CAS号：
性质：系指通过紫外光照射固化的一类抗蚀印料，分为:(1)耐腐蚀型，稀碱溶液去膜，能耐酸性腐蚀；溶剂去膜，能耐酸及碱腐蚀。(2)耐电镀抗蚀型，稀碱溶液去膜，耐酸性电镀液，溶剂去膜，耐弱碱性、酸性电镀液；(3)堵孔型印料，碱溶；(4)加强抗蚀型，去除型(耐化学镀铜)和永久覆盖型。由碱溶性感光高分子树脂、光敏引发剂、活性稀释剂、触变剂、流平剂、着色剂等组成。将上述组分在预混合器中进行搅拌混合，再经三辊机碾磨后配制成产品。无溶剂，无气味，不污染环境，很少有针孔。在印刷中黏度不变化，具有良好的丝网印刷性能。稀碱溶液去膜，能耐三氯化铁、氯化铜、过硫酸铵等酸性蚀刻，耐硫酸铜、铅锡合金及金银等酸性电镀液腐蚀。用于丝网图形蚀刻法和图形电镀法制造印制电路图形，也可用于化学蚀刻法制造精密的金属零件和图形。
CAS号：
性质：系指通过紫外光照射固化的一类抗蚀印料，分为:(1)耐腐蚀型，稀碱溶液去膜，能耐酸性腐蚀；溶剂去膜，能耐酸及碱腐蚀。(2)耐电镀抗蚀型，稀碱溶液去膜，耐酸性电镀液，溶剂去膜，耐弱碱性、酸性电镀液；(3)堵孔型印料，碱溶；(4)加强抗蚀型，去除型(耐化学镀铜)和永久覆盖型。由碱溶性感光高分子树脂、光敏引发剂、活性稀释剂、触变剂、流平剂、着色剂等组成。将上述组分在预混合器中进行搅拌混合，再经三辊机碾磨后配制成产品。无溶剂，无气味，不污染环境，很少有针孔。在印刷中黏度不变化，具有良好的丝网印刷性能。稀碱溶液去膜，能耐三氯化铁、氯化铜、过硫酸铵等酸性蚀刻，耐硫酸铜、铅锡合金及金银等酸性电镀液腐蚀。用于丝网图形蚀刻法和图形电镀法制造印制电路图形，也可用于化学蚀刻法制造精密的金属零件和图形。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条