1) no solvent mechanical film
无溶剂机械成膜
2) solvent-free organic synthesis
无溶剂有机合成
1.
Grinding,phase-transfer catalysis,microwave irradiation and host-guest inclusion are often used for improving the efficiency of solvent-free organic synthesis.
研磨、相转移催化、微波辐射和主-客体包结是用来改善无溶剂有机合成效率的主要方法。
3) solventless coating
无溶剂涂膜
4) medicine film drug machinery
药膜剂机械
6) Solvent-free synthesis
无溶剂合成
1.
The solvent-free synthesis of homoallyl and homopropargyl alcohols in yields of 72%~88% were achieved through allylation and propargylation of carbonyl compounds by zinc powder.
在活化锌粉的促进下,通过羰基化合物的烯丙基化和炔丙基化反应,实现了高烯丙基醇和高炔丙基醇的快速无溶剂合成,收率72%~88%。
补充资料：溶剂型光敏抗蚀干膜
分子式：
CAS号：
性质：光敏抗蚀干膜有溶剂型和水溶性两种不同类型。由聚酯薄膜、感光层和聚乙烯薄膜三合一的感光膜。中间的感光层由成膜树脂、光聚合单体、光敏引发剂和多种助剂组成。其制法是将感光层的各种组分溶解于溶剂中配成胶液，在一定温度下涂布于聚酯薄膜，收卷成筒，包装成产品。使用时先将聚乙烯保护膜撕去，通过热将将感光层粘压到敷铜板上，再经紫外光曝光，显影时未感光的部分被洗去，感光部分黏附在金属表面形成图形，起抗蚀抗电镀作用。干膜涂布均匀，涂层较厚，图形边缘线条陡直，提供了很高的分辨率。采用三氯乙烷、二甲苯、乙酸丁酯等有机溶剂显影。抗蚀性能强，可耐碱、耐酸性腐蚀和电镀，性能稳定可靠。用于双面及多层电路板的生产，制作精密的耐腐蚀耐电镀图形，稳定性优于水溶性干膜。由于采用溶剂显影，成本高，毒性大，操作不便，污染环境，逐步被水溶性光敏抗蚀干膜所替代。
CAS号：
性质：光敏抗蚀干膜有溶剂型和水溶性两种不同类型。由聚酯薄膜、感光层和聚乙烯薄膜三合一的感光膜。中间的感光层由成膜树脂、光聚合单体、光敏引发剂和多种助剂组成。其制法是将感光层的各种组分溶解于溶剂中配成胶液，在一定温度下涂布于聚酯薄膜，收卷成筒，包装成产品。使用时先将聚乙烯保护膜撕去，通过热将将感光层粘压到敷铜板上，再经紫外光曝光，显影时未感光的部分被洗去，感光部分黏附在金属表面形成图形，起抗蚀抗电镀作用。干膜涂布均匀，涂层较厚，图形边缘线条陡直，提供了很高的分辨率。采用三氯乙烷、二甲苯、乙酸丁酯等有机溶剂显影。抗蚀性能强，可耐碱、耐酸性腐蚀和电镀，性能稳定可靠。用于双面及多层电路板的生产，制作精密的耐腐蚀耐电镀图形，稳定性优于水溶性干膜。由于采用溶剂显影，成本高，毒性大，操作不便，污染环境，逐步被水溶性光敏抗蚀干膜所替代。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条