1) diffusion / internal oxidation
扩散/内氧化
2) oxygen chemical diffusion
氧化扩散
1.
With the rapid development in the process of intenrated circuits, the function of the process simulation software has been improved constantly, Taking The oxidation and diffusion process as example, The edit of process initial condition and oxygen chemical diffusion process simulation are done on the computer.
随着集成电路工艺的不断发展,工艺模拟软件功能也在不断的改善,本文以氧化扩散工艺为例,并在计算机上采用SUPREM-Ⅲ完成氧化扩散初始条件的编辑以及工艺模拟,并对模拟结果进行分析比较。
5) Chemical diffusion coefficient
氧化学扩散
1.
Electrical conductivity relaxation method was used to determine the oxygen chemical diffusion coefficients Dchem.
8)钙钛矿型氧化物系列样品,采用电导弛豫法研究了LPSCN样品的氧化学扩散系数。
补充资料：内氧化
分子式：
CAS号：
性质：在合金的高温氧化过程中，除了形成表面氧化物以外，氧可能溶解并扩散进入合金内部，与合金中较活泼的组元发生反应而形成颗粒状氧化物沉积在合金内部的过程。相应的氧化物称内氧化物。只有当合金的组成和浓度满足一定条件时才会发生内氧化，纯金属则不会发生。
CAS号：
性质：在合金的高温氧化过程中，除了形成表面氧化物以外，氧可能溶解并扩散进入合金内部，与合金中较活泼的组元发生反应而形成颗粒状氧化物沉积在合金内部的过程。相应的氧化物称内氧化物。只有当合金的组成和浓度满足一定条件时才会发生内氧化，纯金属则不会发生。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条