1) optimum concentration of doped ions
掺杂离子的最佳浓度
2) Optimum Doped Concentration
最佳掺杂浓度
3) Content of doped ion
掺杂离子浓度
4) best luminescent ionic content
最佳发光离子浓度
1.
With the Gd_2O_3:Tb~(3+) nanoparticles obtained in this way, we do research on their crystal structure, luminescent property and best luminescent ionic content, and all these properties are compared with those of particles formed by oxalate coprecipitation method.
采用反相微乳液法合成Gd_2O_3:Tb~(3+)纳米粒子,对其晶体结构、发光性能和最佳发光离子浓度进行了研究,并且与草酸盐共沉淀法制得的Gd_2O_3:Tb~(3+)相比,结果表明,其粒径减小,晶体形成温度降低了近100℃。
5) doping concentration
掺杂浓度
1.
Measurement of doping concentration in strained Si_(1-x) Ge_x with four-probe array;
四探针法测量应变Si_(1-x)Ge_x掺杂浓度
2.
The electroluminescence spectra of devices with different doping concentration are detected under different driving current densities.
分别以PtOEP掺杂和未掺杂的Alq3膜作为发光层制作有机发光器件(OLED),改变掺杂浓度,检测器件电致发光(EL)光谱的变化。
3.
Based on rate equations,changing doping concentration and cladding size of the Er3+/Yb3+ co-doped double-cladding fiber laser,the effect of the doping concentration and cladding sizeon the performance of the Er3+/Yb3+ co-doped double-cladding fiber laser was studied.
为了研究掺杂浓度、包层尺寸对双包层Er3+/Yb3+共掺光纤激光器的影响,根据双包层Er3+/Yb3+共掺光纤激光器产生激光的机理,基于速率方程,采用改变Er3+,Yb3+掺杂浓度、内包层尺寸等光纤参数的方法,得到了双包层Er3+/Yb3+共掺光纤激光器随光纤参数变化的特征结果。
6) Doped concentration
掺杂浓度
1.
53 μm photoluminescence intensity,doped concentration,and pump power were numerically simulated for Yb-Er co-doped .
考虑两级合作上转换、激发态吸收和交叉弛豫等非线性效应,建立了镱铒共掺氧化铝材料体系的八个能级的速率方程,唯象地构造了合作上转换、激发态吸收、交叉弛豫等系数随镱铒掺杂浓度的变化函数,数值模拟了Yb∶Er∶Al2O3材料1。
2.
By taking account of the loss of cavity as a function of the Nd 3+ doped concentration, a new expressions of the laser output power and the slope efficiency as a function of the doped concentration are obtained, which are coincident with the experimental results quite well.
通过对 Nd:YVO4晶体吸收特性的研究 ,对全固态 Nd:YVO4激光器中晶体的 Nd3 + 掺杂浓度在强光抽运条件下对激光输出特性的影响进行了分析 ,得出了激光器的输出功率和斜效率与晶体掺杂浓度的对应关系。
3.
% doped concentration,and a output coupler with radius of 30mm,were chosen in this experiment,and 456nm laser threshold was realized at 0.
实验中采用标称输出功率为3W的LD,端面抽运掺杂浓度为0。
补充资料：离子掺杂工艺
分子式：
CAS号：
性质：又称离子掺杂工艺，离子注入工艺。指在加速电场作用下，将掺杂用离子束注入被掺杂体内的掺杂方法。这种掺杂方法的目的有两个，其一是利用注入离子实现绝缘型高分子的极化，制备高分子驻极体；其二是利用注入离子与被掺杂材料分子的相互作用，改变其荷电状态，从而增加载流子密度，提高导电性能。离子注入具有许多优点:掺杂温度较低；掺杂浓度可控；掺杂区清晰；能实现大面积均匀掺杂；可在半导体内形成各种复杂的结构；适用于浅结扩散。掺杂剂种类较多，通常有三氟化磷、五氟化磷、三氟化砷、五氟化砷、三氟化硼、三氯化硼、磷烷、砷烷、乙硼烷等
CAS号：
性质：又称离子掺杂工艺，离子注入工艺。指在加速电场作用下，将掺杂用离子束注入被掺杂体内的掺杂方法。这种掺杂方法的目的有两个，其一是利用注入离子实现绝缘型高分子的极化，制备高分子驻极体；其二是利用注入离子与被掺杂材料分子的相互作用，改变其荷电状态，从而增加载流子密度，提高导电性能。离子注入具有许多优点:掺杂温度较低；掺杂浓度可控；掺杂区清晰；能实现大面积均匀掺杂；可在半导体内形成各种复杂的结构；适用于浅结扩散。掺杂剂种类较多，通常有三氟化磷、五氟化磷、三氟化砷、五氟化砷、三氟化硼、三氯化硼、磷烷、砷烷、乙硼烷等
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条