1) Poly(p-vinylphenol)
聚(对-羟基苯乙烯)
2) poly (p-hydroxystyrene)
聚对羟基苯乙烯
1.
Especially,poly (p-hydroxystyrene) is emphatically de- scribed.
本文综述了248 nm KrF光致抗蚀剂成膜树脂的研究进展,重点介绍了聚对羟基苯乙烯及其衍生物,并简要介绍了其合成方法及成像机理。
3) poly(p-hydromethylstyrene)
聚对羟甲基苯乙烯
4) polyhydroxystyrene
聚羟基苯乙烯
1.
The previous development processes, current application status and some latest progresses of polyhydroxystyrene( PHS) used as base matrix rasin in deep ultraviolet photoresist were mainly reviewed.
主要综述了聚羟基苯乙烯用作深紫外光致抗蚀剂主体成膜树脂的发展历程、应用现状以及一些最新的研究进展,并简要介绍了聚羟基苯乙烯的单体衍生物及其聚合物的制备方法。
5) prepolumer
双羟基聚苯乙烯
6) p-hydroxystyrene
对羟基苯乙烯
补充资料：1-邻氰苯乙烯基-4-对氰苯乙烯基苯
分子式：C24H16N2
分子量：332.40
CAS号：13001-38-2
性质：熔点181-186°C。水溶性insoluble。
分子量：332.40
CAS号：13001-38-2
性质：熔点181-186°C。水溶性insoluble。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条