沉积-扩散法,deposition-diffusion mehtod,音标,读音,翻译,英文例句,英语词典

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1) deposition-diffusion mehtod 点击朗读

沉积-扩散法

2) deposition-diffusion method 点击朗读

沉积扩散法

Some antibacterial copperized layer was prepared on 0Cr18Ni9 and 2Cr13 stainless steels surface respectively though deposition-diffusion method.

采用沉积扩散法在 0Cr18Ni9奥氏体不锈钢和 2Cr13马氏体不锈钢表面制备抗菌渗铜层 ,讨论了不同的扩散工艺参数对这两种不锈钢抗菌渗铜层抗菌性能和抗菌持久性的影响。

3) diffusional deposition 点击朗读

扩散沉积

The diffusional deposition of fine particles of finite diameter on the surface o f a droplet or a raindrop, with and without electrical charges, is estimated by employing thin concentration boundary layer theory.

结果表明 :存在静电效应时 ,有限直径小粒子在雾滴表面的扩散通量与两个无量纲参数有关 ;对于无外场作用时的点粒子情形 ,上述两种流型下的扩散沉积特征与粘性流结果亦不相

4) deposition-diffusion 点击朗读

沉积扩散

The preparation technology and parameters of high silicon steel by deposition-diffusion are reviewed.

综述了化学气相沉积、等离子体化学气相沉积、电泳沉积、熔盐电沉积、电子束物理气相沉积及激光熔覆等6种沉积扩散法制备高硅钢的工艺和参数,从工艺路线、反应机理分析和性能的改善等几方面,概述了各种方法的研究现状和主要的优缺点,并简要论述了其发展前景,指出了今后的主要研究方向。

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5) electro deposition-diffusion process 点击朗读

电沉积-扩散工艺

6) sediment dispersal pattern 点击朗读

沉积物扩散样式

补充资料：电解沉积法生产镉

电解沉积法生产镉
production of cadmium by electrowinning

d一anJ一e ehenjifo shengehon ge电解沉积法生产镐(produetion of cadmiumby eleetrowinning)从含福原料制得的纯净福电解液，经电解沉积生产金属镐的过程，为福生产方法之一。主要用于处理铜福渣，工艺流程如图。主要包括铜福渣硫酸浸出、锌粉置换沉淀海绵福、海绵福溶解造液、福电解沉积和福熔铸等过程。铜锡渣硫酸浸出铜锡渣为湿法炼锌厂的副产物，含福2.5%一12%;此外，还含锌35%一60%、铜4%一17%、铁0.05%~2.0%和少量砷、锑、5102、钻、镍、佗、锢等杂质。在浸出前将其堆放在空气中氧化，可加速浸出过程，但同时也增加了铜的溶解损失，只宜用于处理含铜较低的铜锡渣。铜锡渣的浸出使用硫酸或福电解及锌电解的废液，在机械或空气一机械搅拌槽(见浸出糟)中进行。将硫酸缓慢加入盛有铜福渣的浸出槽中，在保持含游离酸10一159/L的最高浸出酸度和353一363K温度下，浸出6一sh。当酸度降至5一49/L时加入软锰矿，在_二敏化锰铜锅渣硫酸公福锭电积法从铜锡渣生产锡工艺流程pHd.8一尔。时加氧化锌粉中和至pHS.2一5.4以除去浸出液中的铜，停止搅拌。浸出的主要反应为: Cd十ZH+一一(:dZ干一衬HZ Cd()斗一ZH十一一二二CdZ书十HZO Zn十ZH长一~之ZnZ千十H: Cu(〕升一ZH辛=一州二uZ十十H:O Cu洲十Cd一一气!dZ未一粉Cu除锌锅外，镍、钻、锢、铭等杂质也进入溶液。锌粉置换沉派海绵锅净化除杂质后过滤所得的滤液，又重新加硫酸酸化至pH3一4，然后缓慢加入锌粉置换沉淀福，至溶液含锡小于10009/L时进行压滤所得海绵福含福60%~80%。海绵锅溶解造液将海绵福和浓硫酸加入机械搅拌槽中进行溶解造液，在维持358一363K温度下溶解2一3h待溶液酸度降至。，5一19/I，，便加KMnO。氧化除铁。接着用石灰乳中和溶液至pHS.4使部分杂质水解而除去。然后再加入海绵镐使溶液pH降至3·8一4.。，置换除铜后便可送去过滤。所得滤液即为纯净的铜电解液，其主要成分(质量浓度尸/g·l‘)为: (二d Zn Fc(二。;八s斗S十， 200一250 20~30长0.05<口.‘)0‘)5<().(jol 锅电解沉积与锌电解沉积过程相似以铝板作阴极，用纯铅或铅银合金(含银99.99，Pt)<。.、。时，Z。<0.002，Cu<。.001，Fe<。.002;达一级品锅质量f

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参考词条

松散沉积物采样法扩散式沉淀扩散控制沉沉积-沉淀法沉积沉淀法松散沉积层松散沉积物

大气扩散-沉积模式共沉淀还原扩散法扩散面积容积扩散

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	您的位置：首页 -> 词典 -> 沉积-扩散法 1) deposition-diffusion mehtod 沉积-扩散法 2) deposition-diffusion method 沉积扩散法 1. Some antibacterial copperized layer was prepared on 0Cr18Ni9 and 2Cr13 stainless steels surface respectively though deposition-diffusion method. 采用沉积扩散法在 0Cr18Ni9奥氏体不锈钢和 2Cr13马氏体不锈钢表面制备抗菌渗铜层 ,讨论了不同的扩散工艺参数对这两种不锈钢抗菌渗铜层抗菌性能和抗菌持久性的影响。 3) diffusional deposition 扩散沉积 1. The diffusional deposition of fine particles of finite diameter on the surface o f a droplet or a raindrop, with and without electrical charges, is estimated by employing thin concentration boundary layer theory. 结果表明 :存在静电效应时 ,有限直径小粒子在雾滴表面的扩散通量与两个无量纲参数有关 ;对于无外场作用时的点粒子情形 ,上述两种流型下的扩散沉积特征与粘性流结果亦不相 4) deposition-diffusion 沉积扩散 1. The preparation technology and parameters of high silicon steel by deposition-diffusion are reviewed. 综述了化学气相沉积、等离子体化学气相沉积、电泳沉积、熔盐电沉积、电子束物理气相沉积及激光熔覆等6种沉积扩散法制备高硅钢的工艺和参数,从工艺路线、反应机理分析和性能的改善等几方面,概述了各种方法的研究现状和主要的优缺点,并简要论述了其发展前景,指出了今后的主要研究方向。更多例句>> 5) electro deposition-diffusion process 电沉积-扩散工艺 6) sediment dispersal pattern 沉积物扩散样式补充资料：电解沉积法生产镉电解沉积法生产镉 production of cadmium by electrowinning d一anJ一e ehenjifo shengehon ge电解沉积法生产镐(produetion of cadmiumby eleetrowinning)从含福原料制得的纯净福电解液，经电解沉积生产金属镐的过程，为福生产方法之一。主要用于处理铜福渣，工艺流程如图。主要包括铜福渣硫酸浸出、锌粉置换沉淀海绵福、海绵福溶解造液、福电解沉积和福熔铸等过程。铜锡渣硫酸浸出铜锡渣为湿法炼锌厂的副产物，含福2.5%一12%;此外，还含锌35%一60%、铜4%一17%、铁0.05%~2.0%和少量砷、锑、5102、钻、镍、佗、锢等杂质。在浸出前将其堆放在空气中氧化，可加速浸出过程，但同时也增加了铜的溶解损失，只宜用于处理含铜较低的铜锡渣。铜锡渣的浸出使用硫酸或福电解及锌电解的废液，在机械或空气一机械搅拌槽(见浸出糟)中进行。将硫酸缓慢加入盛有铜福渣的浸出槽中，在保持含游离酸10一159/L的最高浸出酸度和353一363K温度下，浸出6一sh。当酸度降至5一49/L时加入软锰矿，在_二敏化锰铜锅渣硫酸公福锭电积法从铜锡渣生产锡工艺流程pHd.8一尔。时加氧化锌粉中和至pHS.2一5.4以除去浸出液中的铜，停止搅拌。浸出的主要反应为: Cd十ZH+一一(:dZ干一衬HZ Cd()斗一ZH十一一二二CdZ书十HZO Zn十ZH长一~之ZnZ千十H: Cu(〕升一ZH辛=一州二uZ十十H:O Cu洲十Cd一一气!dZ未一粉Cu除锌锅外，镍、钻、锢、铭等杂质也进入溶液。锌粉置换沉派海绵锅净化除杂质后过滤所得的滤液，又重新加硫酸酸化至pH3一4，然后缓慢加入锌粉置换沉淀福，至溶液含锡小于10009/L时进行压滤所得海绵福含福60%~80%。海绵锅溶解造液将海绵福和浓硫酸加入机械搅拌槽中进行溶解造液，在维持358一363K温度下溶解2一3h待溶液酸度降至。，5一19/I，，便加KMnO。氧化除铁。接着用石灰乳中和溶液至pHS.4使部分杂质水解而除去。然后再加入海绵镐使溶液pH降至3·8一4.。，置换除铜后便可送去过滤。所得滤液即为纯净的铜电解液，其主要成分(质量浓度尸/g·l‘)为: (二d Zn Fc(二。;八s斗S十， 200一250 20~30长0.05<口.‘)0‘)5<().(jol 锅电解沉积与锌电解沉积过程相似以铝板作阴极，用纯铅或铅银合金(含银99.99，Pt)<。.、。时，Z。<0.002，Cu<。.001，Fe<。.002;达一级品锅质量f 说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。参考词条松散沉积物采样法扩散式沉淀扩散控制沉沉积-沉淀法沉积沉淀法松散沉积层松散沉积物

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