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1)  film composition
镀层成分
1.
The affects of the temperature,compositions,and pH value of the plating solution on the film composition and film deposition rate are involved.
本文着重研究非晶态Ni-P和Ni-W-P双层组合镀层的化学镀工艺条件:如镀液组分及pH值等对镀层成分、镀层沉积速率的影响。
2)  pulse current parameters
镀层合金成分
3)  graduated coating
分层镀层
4)  synthetic overlay
合成镀层
5)  formation process of coating
镀层形成
6)  coating constituent
镀层组分
补充资料:磁性镀层
分子式:
CAS号:

性质:用于提高某些金属或非金属零件的磁性要求的电镀层。如录音机或电子计算机等设备中的录音带、磁环线、记忆鼓等储存系统,一般镀镍铁、镍钴、镍铬磷等合金。通过改变电镀工艺参数,可获得不同性能的磁性镀层。

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