说明:双击或选中下面任意单词,将显示该词的音标、读音、翻译等;选中中文或多个词,将显示翻译。
您的位置:首页 -> 词典 -> PSA-CMC过程
1)  PSACMC process
PSA-CMC过程
2)  critical micelle concentration
CMC
1.
The critical micelle concentration(CMC) and ΔHθm were measured,and ΔGθm and ΔSθm were calculated.
借助热力学理论,测得了临界胶束浓度(CMC)和胶束形成热(ΔHθm),计算了ΔGmθ和ΔSmθ。
2.
The experiments has shown that the surface tension curves of the surfactants in the presence of RB has changed compared with those in the absence of RB,but the apparent critical micelle concentrations(cmc) of the surfactants haven't been changed almostly.
结果表明:RB与各表面活性剂之间存在不同程度的相互作用,由于RB是阳离子染料,它与阴离子表面活性剂的静电作用比较强;RB的加入对不同表面活性剂的临界胶束浓度(cmc)的影响较小,但是对表面张力的影响却很大。
3.
Surface tension and critical micelle concentration (CMC) of mixtures containing lauryl methyl ester ethoxylate (LMEE) and sodium dodecyl sulfate (SDS) were determined.
通过表面张力的测定,研究了温度和不同无机盐对月桂酸甲酯乙氧基化物(laurylmethylesterethoxylate,简称LMEE)与十二烷基硫酸钠(SDS)复配物表面张力及临界胶束浓度(CMC)的影响。
3)  PSA membrane
PSA膜
4)  Microtubule-associated protein(MAP2)
PSA-NCAM
5)  PSA method
PSA法
6)  free-PSA/total-PSA ratio
游离PSA/总PSA
补充资料:正规过程和倒逆过程
      讨论完整晶体中声子-声子散射问题时,由于要求声子波矢为简约波矢(见布里渊区),所得到的总波矢守恒条件会相差一个倒易点阵矢量G)。例如对于三声子过程有下列条件
  
  
     , (1)
  式中q1和q2是散射前的声子简约波矢, q3为散射后声子波矢,式(1)中G)的取值应保证q3也是简约波矢。这时会出现两种过程,其一是当q1+q2在简约区内时,可以取倒易点阵矢量G)=0,式(1)则简化为总波矢守恒条件,称为正规过程或N过程。其二是当q1+q2超出简约区时,所取G)应保证q3仍落于简约区内,由于q3与q1+q2相差G),显然q3位于q1+q2的相反一侧,这时散射使声子传播方向发生了倒转,故称为倒逆过程或U过程。U过程总波矢不守恒,但总能量守恒,因为声子频率是倒易点阵的周期函数,而q3与q1+q2只相差一个倒易点阵矢量。N过程在低温长波声子的散射问题中起主要作用。当温度升高,简约区边界附近的声子有较多激发时,U过程变得十分显著,它对点阵热导有重要贡献。
  
  在能带电子与声子散射问题中存在着与式 (1)相仿的总波矢条件
  k+G=k┡±q,
  
     (2)
  式中k与k┡分别为散射前后电子的简约波矢,±号分别对应于吸收或发射q声子。类似的在热中子-声子散射以及晶体中一切波的相互作用过程中,总波矢变化都相差一个倒易点阵矢量G),因此也都有N与U过程之分。这是晶体和连续媒质不同之处,连续媒质对无穷小平移具有不变性,才能求得总波矢守恒,而晶体只具有对布喇菲点阵的平移不变性,因此总波矢守恒条件会相差一个倒易点阵矢量。
  

说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条