1) milling balance
研磨平衡
2) plane lapping
平面研磨
1.
Research on the uniformity of certain and uncertain eccentricity plane lapping processes;
定偏心和不定偏心平面研磨均匀性的研究
2.
Based on the production practice and aimed at the plane lapping processing technogy and its technology measure for the extra_hard transparent ceramics, the theoretical research was carried out so as to improve the quality in mass production, to reduce cost and to make the material be used more widely.
基于生产实践针对超硬透明陶瓷材料平面研磨加工技术及技术保证措施进行研究 ,以提高批量生产质量、降低成本 ,而使其得到更广泛的应用。
3.
The trace of plane lapping/polishing is reviewed, involving single side and double side lapping/polishing mode.
介绍了平面研磨抛光轨迹均匀性的研究方法,详细阐述了双轴式(包括定偏心式和不定偏心式)、直线式、摇摆式、计算机控制小工具式单面研磨抛光轨迹和行星式双面研磨抛光轨迹的数学函数及其轨迹均匀性,指出了当前轨迹研究中存在的不足。
3) Plane grinding
平面研磨
1.
Modeling and Simulation of Scratches during the Process of Ultra-Precision Plane Grinding;
超精密平面研磨划痕形成的建模与仿真
4) Abraded straight ruler
研磨平尺
5) translational-moving polishing
平动研磨
补充资料：氨合成平衡速率氨平衡合成率
分子式：
CAS号：
性质：又称氨合成平衡速率氨平衡合成率。在不同的催化反应条件下，氨合成反应达到一定程度的化学平衡时氨合成的反应率或合成率。在实际氨合成生产中，不可能达到平衡氨合成率，在工业上设计氨合成塔时，就必须着眼于它的运行能最大限度地接近平衡氨合成率。
CAS号：
性质：又称氨合成平衡速率氨平衡合成率。在不同的催化反应条件下，氨合成反应达到一定程度的化学平衡时氨合成的反应率或合成率。在实际氨合成生产中，不可能达到平衡氨合成率，在工业上设计氨合成塔时，就必须着眼于它的运行能最大限度地接近平衡氨合成率。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条