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1)  in situ sheet resistance
原位方块电阻测量
2)  Square resistance measurement
方块电阻测量
3)  in-situ resistivity measurement
原位电阻率测量
4)  in situ dynamic measurement of resistance
原位动态电阻测量
5)  sheet resistance
方块电阻
1.
Kinetics of the oxidation process of the copper films in the thickness range of 16~22 nm at 140 ℃ was studied by using transmission spectrum and sheet resistance methods.
采用方块电阻和透射光谱两种方法为表征手段,测量16~22nm范围内不同厚度Cu薄膜在140℃下完全氧化所需要的时间,得到了Cu薄膜氧化反应的动力学曲线,并利用X射线衍射(XRD)分析了氧化产物的晶相结构和成分。
2.
The sheet resistances and reflectivity of ultra-thin aluminum and nickel films were measured when they were applied to foam with different thickness.
测量了Al,Ni薄膜的方块电阻及其用于不同厚度泡沫结构的平板反射率,实验结果表明:超薄金属膜结构可以实现谐振吸收;吸波性能由介质材料和金属薄膜共同决定。
3.
Then,the effects of heat treatment and temperature on the chemical composition and sheet resistance of the prepared films were investigated by XRD,EDXS and sheet resistance measurements.
利用X射线衍射和能量散射X射线能谱表征方法,并结合薄膜方块电阻的测定,探讨了热处理方式和热处理温度对薄膜化学组成及薄膜电阻的影响。
6)  block resistance
方块电阻
1.
The first is definition of ITO; the second is definition of block resistance; the third is precise calculation of ITO resistance, and the fourth, analyzing the factors affecting the ITO resistance.
论述了ITO、方块电阻的定义及ITO阻值的精确计算 ,并结合实际应用讨论了影响ITO阻值的因素 ,对版图设计和LCD生产的过程控制有一定的借鉴意义。
补充资料:立体方块屋
立体方块屋
立体方块屋

现代建筑的爱好者最能惬意地游览鹿特丹(rotterdam)早在第二次世界大战时,鹿特丹就因遭德军的轰炸而全毁,鹿特丹人从瓦砾中重建起别具风格的建筑,广受世人瞩目,被认为是现代建筑的实验场。例如:靠近旧天堂(oude haven)附近的「立体方块屋」就相当值得一看,还有kop van zuid区、自1930年代保留到现在的van nelle工厂,以及博物馆公园。鹿特丹这个城市宛如一座开放式的摩登建筑博物馆,让人惊叹各种型式的文化丰富了城市的风貌,流行的设计商店、前卫大胆的流行设计者、创新表演艺术手法…你都可以在鹿特丹找到。

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