1) low chromic anhydride content
低铬酐浓度
2) chromic acid-sulfuric acid
铬酐-浓硫酸
1.
Etching effects of potassium permanganate etching solution and traditional chromic acid-sulfuric acid solution were researched and compared by observations of surface morphology and measurements of peel strength between electroless copper coating and the substrate.
通过基板表面形貌的观察和对化学镀铜层与基板间粘结强度的测定,研究和比较了高锰酸钾体系和传统的铬酐-浓硫酸体系对两种基板的微蚀效果。
4) chromium concentration
铬浓度
1.
The thickness of the chromizing layer is 48μm,microhardness is about 1750HV and chromium concentration of the layer is about 86.
15MPa氩气保护下,经850℃×6h渗铬,可获得与基体结合良好的48μm的渗铬层,渗层表面铬浓度约86。
2.
Microhardness of the layer is about 1300～1500 HV and chromium concentration is 65% to 81%.
结果表明 ,采用本文的盐浴渗剂 ,可在 86 0℃以下温度对T10钢进行盐浴渗铬 ,并获得较厚的渗铬层 ,渗层表面硬度可达 130 0～ 15 0 0HV ,表面铬浓度在 6 5 %～ 81%范围内。
5) Serum creatinine (Scr)
血肌酐浓度
6) concentration of urinary creatinine
尿肌酐浓度
补充资料：铬酐
CrO3 又称三氧化铬，一种重要的铬化合物，结晶呈红色至暗红色。熔融时稍有分解，易溶于水、醇及醚，易潮解，有毒，腐蚀性强，与有机物接触摩擦引起燃烧。在贮运中须密闭包装，并注意防热、防击。不得与有机物混放混运，操作中要注意防护。
铬酐的制备有硫酸法、硝酸法、氟硅酸法及电解法等。工业上主要采用硫酸法。将无水重铬酸钠与硫酸在反应釜内混合后,加热至200℃进行熔融反应，得到熔融生成物铬酐和硫酸氢钠，静置分层（铬酐的密度大于硫酸氢钠，沉于釜底）后，熔融铬酐从反应釜底部放出进入冷却切片机，即可得到片状铬酐。其反应式为：
Na2Cr2O7＋2H2SO4─→2CrO3＋2NaHSO4＋H2O生产过程中要严格控制反应温度和时间。由于生产规模不断扩大，生产铬酐的工艺也由间歇式变为连续式（设备多为卧式连续反应器）。连续式的特点是设备小，产量大，产品质量稳定。
铬酐是电镀工业的最主要原料，大部分铬酐消费在电镀工业中。铬酐是良好的氧化剂，可用于漂白、精制，还可用作染料的原料、媒染剂（见染整助剂）、鞣革剂（见皮革用化学品）以及有机合成反应的催化剂。此外，还用于医药、陶瓷，有色玻璃等工业中。
铬酐的制备有硫酸法、硝酸法、氟硅酸法及电解法等。工业上主要采用硫酸法。将无水重铬酸钠与硫酸在反应釜内混合后,加热至200℃进行熔融反应，得到熔融生成物铬酐和硫酸氢钠，静置分层（铬酐的密度大于硫酸氢钠，沉于釜底）后，熔融铬酐从反应釜底部放出进入冷却切片机，即可得到片状铬酐。其反应式为：
Na2Cr2O7＋2H2SO4─→2CrO3＋2NaHSO4＋H2O生产过程中要严格控制反应温度和时间。由于生产规模不断扩大，生产铬酐的工艺也由间歇式变为连续式（设备多为卧式连续反应器）。连续式的特点是设备小，产量大，产品质量稳定。
铬酐是电镀工业的最主要原料，大部分铬酐消费在电镀工业中。铬酐是良好的氧化剂，可用于漂白、精制，还可用作染料的原料、媒染剂（见染整助剂）、鞣革剂（见皮革用化学品）以及有机合成反应的催化剂。此外，还用于医药、陶瓷，有色玻璃等工业中。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条