3) logging constrained inversion
测井约束反演
1.
Application of logging constrained inversion to the 3-D seismic lithological exploration in coalfield;
测井约束反演技术在煤田三维地震岩性勘探中的应用
2.
Application of logging constrained inversion technology in prediction of magmatic rock distribution in coal mines
测井约束反演在预测煤矿岩浆岩分布中的应用
4) logging-constrained inversion
测井约束反演
1.
In this paper we used logging-constrained inversion to determine the thickness and distribution of the igneous rock.
通过测井约束反演得到火成岩的空间厚度变化 ,进行成图校正 ,提高了成图精度。
2.
When there are no sonic and density data or although there are sonic and density data but they can t distinguish lithology, the sonic curves reconstructed by SP curves and gamma ray curves sensitive to lithologic reaction can also be used for logging-constrained inversion and give prediction of reservoir.
在缺少声波、密度资料或者即便有声波、密度资料但却不能区分岩性的情况下,借用其他对岩性反应敏感的自然电位和自然伽马等曲线重构的声波曲线,同样可用于测井约束反演,进行储层预测。
5) log-constraint inversion
测井约束反演
1.
Application of log-constraint inversion technique in comprehensive analysis of reservoir and cap in LZ21-4 structural belt;
测井约束反演技术在LZ21-4构造带储盖层综合分析中的应用
2.
A series of techniques are presented for reservoir prediction of structural nose,it uses seismic attribute technique,neural networks to predict the reservoir parameters and log-constraint inversion technique,the sandstone bodies and the hydrocarbon distribution of reservoirs.
研究提出了识别鼻状构造的储层预测技术,即联合应用地震属性技术、测井约束反演技术及神经网络储层参数预测技术对储层砂体及油气分布进行了预测,整个储层预测过程既有定性识别又有定量评价岩性油气藏。
6) well logging constrained seismic inversion
测井约束反演
1.
A new method was proposed that recognition and correlation of flooding surfaces and chronostratigraphic units through the integration of cores,well logging and well logging constrained seismic inversion data.
应用测井约束反演资料，可对湖泛面及高分辨率时间地层单元进行高精度的追踪对比。
补充资料：长度计量技术：光栅测长技术
利用光栅產生的莫尔条纹测量位移和轮廓形状等的长度计量技术。测量位移时﹐将计量光栅副中的光栅尺和指示光栅分别固定在长度测量工具或机床等的移动件(例如滑架)和不动件(例如机床导轨)上。两者相隔一个很小的间隙(一般为 0.05～0.1毫米)。当滑架移动时﹐出现在光栅副上的莫尔条纹的週期性光强变化﹐通过光电转换元件转换为正弦波形电信号﹐经放大﹑整形﹑细分﹑计数和显示等电子部分后即可得出光栅位移量。由光源﹑计量光栅副和光电转换元件等组成的部件称为光栅式长度传感器。由光栅式长度传感器和放大﹑整形﹑细分﹑计数和显示等电子部分组成的系统称为光栅测量系统(见图 光栅测量系统 )
﹐常用具有相位依次差1/4线距的四组线条的光栅作为指示光栅。当以圆光栅副代替长光栅副时﹐类似的测量系统可用於测量角位移。长﹑圆光栅测量系统的精确度分别可达 1微米/1000毫米和0.5/360°以上。随著光栅製造技术和电子技术的发展﹐从20世纪50年代开始应用光栅测长技术来测量位移。这种方法已用於三坐标测量机﹑数字显示工具显微镜﹑渐开线测量仪﹑齿轮单面嚙合检查仪和电子千分尺等的测量系统中﹐也常用於数字控制机床的定位反馈系统和其他机床的定位系统中。70年代又开始利用莫尔轮廓图测量表面轮廓形状和变形等。
﹐常用具有相位依次差1/4线距的四组线条的光栅作为指示光栅。当以圆光栅副代替长光栅副时﹐类似的测量系统可用於测量角位移。长﹑圆光栅测量系统的精确度分别可达 1微米/1000毫米和0.5/360°以上。随著光栅製造技术和电子技术的发展﹐从20世纪50年代开始应用光栅测长技术来测量位移。这种方法已用於三坐标测量机﹑数字显示工具显微镜﹑渐开线测量仪﹑齿轮单面嚙合检查仪和电子千分尺等的测量系统中﹐也常用於数字控制机床的定位反馈系统和其他机床的定位系统中。70年代又开始利用莫尔轮廓图测量表面轮廓形状和变形等。 说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条