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1)  medium pressure nitrogen
中压氮
1.
The consumption of medium pressure nitrogen has been increased by a great margin in WISCO since commissioning of such a few technical engineering projects as furnace protection by slag splash and pulverized coal injection in the steel-making process.
随着武钢炼钢溅渣护炉、煤粉喷吹等项目的投运 ,武钢中压氮气的用量大幅增长 ,由于中压氮气使用工艺的特殊性及传统的测量手段的局限性导致中压氮气用得越多 ,配损越大。
2)  nitrogen partial pressure in the tissues
组织中氮分压
3)  N2 partial pressure
氮分压
1.
The Nb-Si-N films were deposited by reactive magnetron sputtering with different N2 partial pressures.
用反应磁控溅射法在不同的氮分压下沉积了Nb-Si-N薄膜。
2.
It vvas showed that TiN film was multiple influnenced by magnetic field and N2 partial pressure.
利用扫描电镜、X射线衍射仪、M-200磨损试验机以及显微硬度计等,对TiN涂层的表面形貌、组织结构和性能进行了分析,揭示了弧靶磁场氮分压等工艺对TiN涂层组织结构性能的综合影响。
4)  N2-pressurized
氮气加压
5)  compressed Nitrogen
压缩氮气
6)  nitrogen partial pressure
氮气分压
1.
The crystal structure and mechanical properties of (Ti,Al)N films are strongly dependent on the nitrogen partial pressure The st.
试验结果表明,采用Ti,Al原子比为1∶1的靶材在不同的氮气分压下制成的样品薄膜在硬度方面有差异,在氮气分压为1。
2.
It was found that the nitrogen partial pressure and substrate temperature are thetwo important factors affecting the formation of Fe-N phases and their magneticproperties.
系统研究了氮气分压、基底温度,溅射功率等制备工艺条件对 Fe-N 薄膜结构和磁性的影响,以及 Fe-N 薄膜的饱和磁化强度的尺寸效应。
补充资料:氮蒸气压温标(heliumvapor-pressurescale)
氮蒸气压温标(heliumvapor-pressurescale)

利用氦的蒸气压与温度的对应关系作为低温的温度标准。由国际计量委员会的温度咨询委员会的多年工作以及各国计量部门的协议通过,在国际上一致应用的1990国际温标,ITS-90规定了,在0.65~5.0K的温区由3He和4He蒸气压与温度T的关系来定义,其T-P关系由下式决定:

`T_{90}//K=A_0 sum_{i=1}^9A_i*[(lnP//Pa-B)//C]^i`

在0.65~3.2K,采用3He蒸气压,在1.25~2.1768K及2.1768~5.0K,采用4He蒸气压,其中除掉2.1768K的λ点。温度咨询委员会同时给出了以上多项式的12个参数。

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