1) ion nitriding
辉光离子渗氮
2) glow plasma nitriding furnace
辉光离子渗氮炉
1.
The temperature of glow plasma nitriding furnace is determined by digital image analysis method.
利用数字图像处理技术对辉光离子渗氮炉温度进行判别,首先运用Otsu方法对辉光离子渗氮炉加热部分的图像进行阈值选取,找出目标部分,然后提取目标部分的特征量,对特征量进行分析,从而判断辉光离子渗氮炉的温度。
3) glow
辉光
1.
The influence of the magnetic field magnetron under the substrate on the sputtering glow and film thickness gradient;
基片下磁场磁控对溅射辉光及薄膜梯度的影响
2.
The configuration of the glow clearly contracted in this case.
辉光放电时 ,其外貌发生了显著的收缩 ,由此沉积的薄膜在平面内存在明显的厚度梯度 。
3.
The configuation of the glow contracted obviously in this case.
在这种情况下 ,辉光外貌发生显著收缩。
4) glow discharge
辉光放电
1.
Hydrogen generation from reforming of lower alcohols aqueous solution by glow discharge plasma under liquid;
液下辉光放电等离子体重整低碳醇水溶液制氢
2.
An overview on atmospheric pressure glow discharge for textile treatment;
纺织品常压辉光放电等离子体处理技术
3.
Influence of hot cathode glow discharge on the deposition of diamond films;
热阴极辉光放电对金刚石膜沉积的影响
5) double glow
双层辉光
1.
The preparation processing parameter study of the double glow discharge plasma hydrogen-free carburizing on titanium alloy surface;
钛合金双层辉光放电离子无氢渗碳制备工艺研究
2.
Electrode structure in double glow surface alloying process;
双层辉光离子渗金属电极结构的研究
3.
Absorbing Alloy Element Rate of Surface by Double Glow Plasma Surface Multi-Element Alloying Technique;
双层辉光多元共渗合金元素的吸收率
6) double glow discharge
双层辉光
1.
Ti-Al alloying diffusion layer was fabricated on the surface of titanium alloy(Ti6Al4V) by double glow discharge plasma technique and hollow cathode effect.
利用双层辉光离子渗金属技术,以纯铝作为源极,氩气为工作气体,利用不等电位空心阴极效应在钛合金(Ti6A l4V)表面渗铝,形成均匀致密的钛铝合金扩散层,采用WTM-1型球-盘摩擦磨损试验机对钛合金表面钛铝合金扩散层的摩擦性能进行研究,用显微硬度仪测量渗层的显微硬度,并用扫描电子显微镜和X射线衍射仪观察分析钛铝合金扩散层的截面形貌和相结构。
2.
Some fundamental aspects of the double glow discharge plasma surfacealloying process(Xu-Tec.
根据双层辉光离子渗金属的基本物理过程，建立并求解了工艺过程中3个基本过程，即源极金属原子的溅射、空间输运和缺陷增强扩散的流量方程在宏观工艺参数条件下探讨了由气压、电压、极间距离和温度确定的渗层成分-深度随时间变化的模拟方法，讨论了由实际工艺条件转化为数学模型所采取的步骤，建立方程所依据的假定和简化的合理性，得出了与实验相吻合的计算结果。
3.
The technology, Covered by US and interna-tiond patentes, employs the double glow discharge phenomenon to produce an alloy layer with special physical and chemical properties on the surface of the common Electrical conductive materials.
双层辉光离子渗金属技术是在离子氮化基础上发展的表面冶金技术。
参考词条
补充资料：HF120真空离子渗碳(碳氮共渗)设备
一、设备特点：
1、加热室、过渡室、油淬室为立式结构（也可卧式）。
2、石墨碳棒加热，加热速度快，温度均匀，使用寿命。
3、脉冲偏压源，提供高稳定的强渗电源。
4、可实现气淬；油淬；真空退火；真空回火等多种工艺过程。
二、工艺特点：
1、渗碳温度可大幅度降低，实现渗碳温度与加热淬火温度一致，避免重复加热，节省能源，减小零件变形量。
2、不使用防渗剂，不渗的地方用铁板遮挡住即可，例：齿轮可先渗碳淬火再拉键槽。
3、对齿轮而言，渗碳优势明显，通过工艺控制可实现在节园部分渗层深齿根部分渗层略浅。
例如：对渗碳层深0.8mm以上。
真空离子渗碳：860℃~880℃保温2.5h+扩散0.5h淬火。
气体渗碳：930℃保温3h+扩散1h冷却，再加热至860℃淬火。
4、耗气量甚微，节能环保。
5、设备功率分别为：30/20；40/15；50/30；65/50；90/30。（电阻加热功率/辉光放电功率）。
6、工艺类型 等离子体渗碳或碳氮共渗的特点之一，是无忧机械电子在渗入的初期在工件表面就很容易建立高碳浓度，加上表面碳浓度随处理时间的延长而增加，所以必须采取渗碳加扩散的工艺（尤其对渗层较深的工件）。
7、设备示意图：
8、等离子体渗碳的原理
等离子体渗碳的原理与离子渗氮相似。工件渗碳时所需的活性碳原子或离子，不仅象常规气体渗碳一样利用热分解反应，而且还利用辉光放电时在阴极（工件）位降区中工作气体的电离而获得。以渗碳介质丙烷为例，它在等离子渗碳中的反应过程如下：
辉光放电
C3H8————————Cr+C2H6+H2
900～1000℃
辉光放电
C3H8————————Cr+CH4+H2
900～1000℃
辉光放电
C3H8————————Cr+ 2H2
900～1000℃
式中Cr 活性碳原子和离子
9、等离子渗碳的优点
⑴渗碳速度快
由于它是在真空中加热，并有高能离子的轰击，致使被处理件表面洁净与活化，再加上渗碳气体由于热分解与电离的双重作用，并在直流脉冲电场的作用下，使得工件表面附近的空间在短时间内就形成高的碳离子浓度区，从而加速了碳向工件的渗入与扩散，大大缩短渗碳时间。例如880℃，1h的离子渗碳就可获得0.6mm深的硬化层，同常规气体渗碳相比，可以缩短约50%的时间。
⑵渗层容易控制
由于工作气氛气压，放电电流密度、渗碳气体的流量及导入时间以及点燃辉光等都可以按需要预先设定并调节，因而能准确控制渗层。例如，通过调节放电电流密度值，就可以很容易控制表面碳浓度及硬化层深度。
1、加热室、过渡室、油淬室为立式结构（也可卧式）。
2、石墨碳棒加热，加热速度快，温度均匀，使用寿命。
3、脉冲偏压源，提供高稳定的强渗电源。
4、可实现气淬；油淬；真空退火；真空回火等多种工艺过程。
二、工艺特点：
1、渗碳温度可大幅度降低，实现渗碳温度与加热淬火温度一致，避免重复加热，节省能源，减小零件变形量。
2、不使用防渗剂，不渗的地方用铁板遮挡住即可，例：齿轮可先渗碳淬火再拉键槽。
3、对齿轮而言，渗碳优势明显，通过工艺控制可实现在节园部分渗层深齿根部分渗层略浅。
例如：对渗碳层深0.8mm以上。
真空离子渗碳：860℃~880℃保温2.5h+扩散0.5h淬火。
气体渗碳：930℃保温3h+扩散1h冷却，再加热至860℃淬火。
4、耗气量甚微，节能环保。
5、设备功率分别为：30/20；40/15；50/30；65/50；90/30。（电阻加热功率/辉光放电功率）。
6、工艺类型 等离子体渗碳或碳氮共渗的特点之一，是无忧机械电子在渗入的初期在工件表面就很容易建立高碳浓度，加上表面碳浓度随处理时间的延长而增加，所以必须采取渗碳加扩散的工艺（尤其对渗层较深的工件）。
7、设备示意图：
8、等离子体渗碳的原理
等离子体渗碳的原理与离子渗氮相似。工件渗碳时所需的活性碳原子或离子，不仅象常规气体渗碳一样利用热分解反应，而且还利用辉光放电时在阴极（工件）位降区中工作气体的电离而获得。以渗碳介质丙烷为例，它在等离子渗碳中的反应过程如下：
辉光放电
C3H8————————Cr+C2H6+H2
900～1000℃
辉光放电
C3H8————————Cr+CH4+H2
900～1000℃
辉光放电
C3H8————————Cr+ 2H2
900～1000℃
式中Cr 活性碳原子和离子
9、等离子渗碳的优点
⑴渗碳速度快
由于它是在真空中加热，并有高能离子的轰击，致使被处理件表面洁净与活化，再加上渗碳气体由于热分解与电离的双重作用，并在直流脉冲电场的作用下，使得工件表面附近的空间在短时间内就形成高的碳离子浓度区，从而加速了碳向工件的渗入与扩散，大大缩短渗碳时间。例如880℃，1h的离子渗碳就可获得0.6mm深的硬化层，同常规气体渗碳相比，可以缩短约50%的时间。
⑵渗层容易控制
由于工作气氛气压，放电电流密度、渗碳气体的流量及导入时间以及点燃辉光等都可以按需要预先设定并调节，因而能准确控制渗层。例如，通过调节放电电流密度值，就可以很容易控制表面碳浓度及硬化层深度。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。