1) laser-hardening
激光化
2) laser nitriding
激光氮化
1.
Pulse laser nitriding of GCr15 steel was studied.
利用Nd:YAG固体脉冲激光对GCr15钢样品表面进行了激光氮化处理,获得了高硬度、高耐磨损、表面致密均匀的氮化铁改性层,并对改性层进行了XRD谱分析和表面及剖面显微形貌分析、表面硬度及硬化深度和磨损率等的测量。
2.
The pure titanium was nitrided by laser nitriding me th od in atmospheric ambient with the radiation of CW CO 2 laser.
利用大气气氛下激光氮化方法,采用CWCO2 激光作为辐射源,同时通以与激光束同轴的激活态氮束流,对工业纯钛进行氮化处理。
3.
Finite-element models of the temperature coupled the concentration of kinetics during laser nitriding were considered.
根据傅里叶传热方程和修正的菲克定律,建立了瞬态激光氮化温度场和浓度场的耦合模型,考虑移动热源形成的温度梯度对氮扩散的影响。
3) laser hardening
激光硬化
1.
The study of behavior of graphite phase in the laser hardening layer of gray iron;
珠光体灰口铸铁激光硬化层中石墨相行为研究
2.
After proper conditioning and laser parameters were selected,laser hardening was performed on LY12.
此外，还系统地研究了工艺参数对硬化区尺寸的影响，工艺参数与硬化区显微硬度的关系，激光硬化区的显微组织变化及化学成分的能谱分析等。
3.
The effects of laser hardening on the structure and wearability of a normalized and an austempered ductile iron were investigated.
结果显示对于等温淬火球铁,激光硬化层中马氏体片的尺寸与基体奥氏体—贝氏体中的铁索体板条尺寸相近。
4) laser enhanced
激光强化
1.
In this paper, experiments on pulse and continuous Nd~+_3:YAG laser enhanced brush plating (LEBP) Ni & n-Al_2O_3/Ni coating are put into practice.
结果表明:与普通电刷镀镀层相比,激光强化电刷镀镀层晶粒明显细化,其中镀层的晶粒尺寸减小了约5nm,且激光的连续性对Ni镀层晶粒尺寸的影响较大。
5) laser strengthening
激光强化
1.
Analysis of the temperature field induced by laser strengthening;
激光强化温度场的理论解析与实验论证
2.
The experimental research on the improvement of the abrasiveness of the half-steel material using laser strengthening technology;
激光强化改善半钢材料耐磨性的实验研究
3.
The transient stress analysis of the roll surface during laser strengthening;
辊面激光强化过程的瞬态应力分析
6) laser chemistry
激光化学
1.
In this paper the direction of the vitality and development of laser chemistry is analysed and studied in terms of the features of laser, quasi-molecule and a new type of laser, and the theory of molecular structure.
本文作者根据普通激光、准分子与自由电子等新型激光器的特性和分子能级结构理论,分析、研究了激光化学的生命力和发展动向。
补充资料：激光化学气相沉积
分子式：
CAS号：
性质： 利用激光束的光子能量激发和促进化学气相反应的沉积薄膜方法。在光子的作用下，气相中的分子发生分解，原子被激活，在衬底上形成薄膜。这种方法与常规的化学气相沉积(CVD)相比，可以大大降低衬底的温度，防止衬底中杂质分布截面受到破坏，可在不能承受高温的衬底上合成薄膜。与等离子体化学气相沉积方法相比，可以避免高能粒子辐照在薄膜中造成损伤。本方法所用设备是在常规的化学气相沉积设备基础上添加激光器、光路系统及激光功率测量装置。用本方法制备的SiO2及Si3N4薄膜时，衬底温度可低至380℃。
CAS号：
性质： 利用激光束的光子能量激发和促进化学气相反应的沉积薄膜方法。在光子的作用下，气相中的分子发生分解，原子被激活，在衬底上形成薄膜。这种方法与常规的化学气相沉积(CVD)相比，可以大大降低衬底的温度，防止衬底中杂质分布截面受到破坏，可在不能承受高温的衬底上合成薄膜。与等离子体化学气相沉积方法相比，可以避免高能粒子辐照在薄膜中造成损伤。本方法所用设备是在常规的化学气相沉积设备基础上添加激光器、光路系统及激光功率测量装置。用本方法制备的SiO2及Si3N4薄膜时，衬底温度可低至380℃。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条