2) diffusion barrier property
阻挡特性
1.
The surface morphology and properties of the thin-films were investigated by four-point probe(FPP)sheet resistance measurement, AFM,SEM,Alpha-step IQ profilers and XRD,also the effects of N and AI doping on diffusion barrier property were discussed.
实验结果表明,Ta、Ta-N和Ta-Al-N膜层的Cu扩散阻挡特性逐渐增强,Ta/Si界面上的反应和Cu通过多晶Ta膜扩散到Si底并形成Cu_3Si共同导致了Ta阻挡层的失效,而Cu通过Ta-N和Ta-Al-N结晶后产生的晶界扩散到Si底并形成Cu_3Si是两者失效的唯一机制。
3) reactive diffusion barrier
活性扩散阻挡层
4) hole-blocking characteristics
空穴阻挡特性
1.
The hole-blocking characteristics and luminescent properties of organic light emitting materials DPVBi were discussed.
本文利用DPVBi的空穴阻挡特性和发光特性制作了一个白光器件。
2.
The hole-blocking characteristics of organic light emitting materials DPVBi were discussed.
讨论了有机发光材料4,4-′b is(2,2-′d iphenyl vinyl)-1,1-′b iphenyl(DPVB i),在结构为ITO/N,N-′b is-(1-naphthyl)-N,N-′d iphenyl-1,1-′b iphenyl-4,4-′d iam ine(NPB)/DPVB i/tris-(8-hydroxyqu inoline)alum inum(A lq3)/L iF/A l的有机电致发光器件中所表现出来的空穴阻挡特性。
5) diffusion barrier property
扩散阻挡特性
6) chemical barrier
化学性阻挡层
补充资料：连续性与非连续性(见间断性与不间断性)
连续性与非连续性(见间断性与不间断性)
continuity and discontinuity
11an父ux泊g四f“山。麻以角g、.连续性与非连续性(c。nt，n琳t:nuity一)_见间断性与不间断性。and diseo红ti-
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条