1) electrodeposition conditions
电沉积条件
1.
Effects of electrodeposition conditions on the texture of methanesulfonate tin deposits;
电沉积条件对甲基磺酸锡镀层织构的影响
2) composite electrodeposition condition
复合电沉积条件
3) Deposition condition
沉积条件
1.
Its main research background,deposition principle and research meaning were introduced;and the latest development of its four research orientations:spattering mechanisms,relationship between deposition conditions and the coatings′ quality,physiological function of the deposited HAP coatings,and the new technology of pulsed laser deposition were summarized.
本文介绍了采用脉冲激光沉积法制备HAP生物陶瓷涂层的研究背景、原理与意义,并对其4个主要研究方向:溅射机理、沉积条件与涂层质量的关系、HAP涂层的生理功能、脉冲激光沉积新工艺的最新研究现状进行了概括与总结。
2.
By using different deposition conditions, four CVD diamond films with different qualities and orientation were grown by the hot-filament CVD technique.
采用不同的沉积条件,通过HFCVD方法制备了四种不同质量、不同取向的CVD金刚石薄膜。
4) Ectonic deposit condition
构造沉积条件
5) sediment supply condition
沉积物供给条件
6) precipitation condition
沉淀条件
1.
Nd 2O 3, Eu 2O 3 and Y 2O 3 were prepared from the corresponding oxalates under various precipitation conditions after calcining at 850 ℃ for 4 h.
以稀土元素Nd ,Eu和Y为对象 ,利用比表面积分析仪和扫描电镜考察了各种沉淀条件对稀土氧化物的比表面和形貌的影响。
补充资料：电沉积层织构
分子式：
CAS号：
性质：电沉积层与基体的结晶取向关系。即在沉积层中相当数量的晶粒表现出来的某种共同取向特征，又称择优取向。在多晶沉积层中，每颗晶粒的空间方位可用它的晶轴与相对于宏观基体的参考坐标系坐标轴的夹角来表示。如果沉积层中各晶粒的三根晶轴相对于参考坐标系呈随机分布，这便是无序取向。如果各晶粒的三根晶轴中有一根与参考坐标系有固定的关系，则成为一维取向，即通常所指的织构。这根晶轴即称为择优取向轴。有时择优取向轴的数目不止一根，这就意味着沉积层中有些晶粒是按某种关系相对于基体取向的，而另一些晶粒是按另一种关系相对于基体取向的。改变镀液组成、电流密度、pH等都可能引起织构的变化。
CAS号：
性质：电沉积层与基体的结晶取向关系。即在沉积层中相当数量的晶粒表现出来的某种共同取向特征，又称择优取向。在多晶沉积层中，每颗晶粒的空间方位可用它的晶轴与相对于宏观基体的参考坐标系坐标轴的夹角来表示。如果沉积层中各晶粒的三根晶轴相对于参考坐标系呈随机分布，这便是无序取向。如果各晶粒的三根晶轴中有一根与参考坐标系有固定的关系，则成为一维取向，即通常所指的织构。这根晶轴即称为择优取向轴。有时择优取向轴的数目不止一根，这就意味着沉积层中有些晶粒是按某种关系相对于基体取向的，而另一些晶粒是按另一种关系相对于基体取向的。改变镀液组成、电流密度、pH等都可能引起织构的变化。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条