1) Sheeny Lettering
光亮刻字
2) bring etching
光亮蚀刻
3) bright etching
光亮酸蚀刻
4) digital lithography
数字光刻
1.
Research on the method of fabricating DOE by digital lithography system with mutipedots scanning;
多光点扫描数字光刻制作DOE的方法研究
5) light writer
光刻字机
6) Digital photolithography
数字光刻技术
1.
Digital photolithography based on Spatial Light Modulator (SLM) is used to fabricate IC mask and microstructure, which employs a computer controlled SLM as a switchable projection mask.
基于空间光调制器(SLM)数字光刻技术可用于IC掩模制作或直接作为微结构的加工工具,但用数字投影光刻系统加工某些结构的二元图形时,往往难以获得预期的图形轮廓,即图形边缘处有一定畸变,特别是较低缩小倍率时。
补充资料：初级光亮剂
分子式：
CAS号：
性质：又称第一光亮剂。包括以下5类化合物：(1)芳香族磺酸类；(2)芳香族磺酰胺类；(3)芳香族磺酰亚胺类；(4)杂环磺酸类；(5)芳香族亚磺酸类。初级光亮剂可单独使用，也可组合使用，它们具有下列一种或多种作用。(1)能使镀层晶粒减小，具有一定的光泽。但单独使用时，只能产生半光亮的镀层，只有与次级光亮剂配合使用，才能产生全光亮的镀层。(2)能降低镀层的张应力，增加镀层的延展性能，但用量过多时会给镀层带来压应力。(3)初级光亮剂具有＝C—SO2—结构，它能以新沉积的镍作为催化剂，在阴极上进行反应，生成相应的含硫化合物。这些化合物最终还原成硫化物，以硫化镍(NiS或Ni2S3)的形式进入镀镍层，使镀层具有较低的电位。(4)初级光亮剂通过其不饱和键吸附在阴极表面的晶体生长部位，如顶端、晶体边缘处等。这些适宜于吸附的部位在数量上是有限的，初级光亮剂的容许用量一般在0.5～8g/L，对结合力与极限电流密度均无很大影响，而且能将控制量的硫夹入镀层。
CAS号：
性质：又称第一光亮剂。包括以下5类化合物：(1)芳香族磺酸类；(2)芳香族磺酰胺类；(3)芳香族磺酰亚胺类；(4)杂环磺酸类；(5)芳香族亚磺酸类。初级光亮剂可单独使用，也可组合使用，它们具有下列一种或多种作用。(1)能使镀层晶粒减小，具有一定的光泽。但单独使用时，只能产生半光亮的镀层，只有与次级光亮剂配合使用，才能产生全光亮的镀层。(2)能降低镀层的张应力，增加镀层的延展性能，但用量过多时会给镀层带来压应力。(3)初级光亮剂具有＝C—SO2—结构，它能以新沉积的镍作为催化剂，在阴极上进行反应，生成相应的含硫化合物。这些化合物最终还原成硫化物，以硫化镍(NiS或Ni2S3)的形式进入镀镍层，使镀层具有较低的电位。(4)初级光亮剂通过其不饱和键吸附在阴极表面的晶体生长部位，如顶端、晶体边缘处等。这些适宜于吸附的部位在数量上是有限的，初级光亮剂的容许用量一般在0.5～8g/L，对结合力与极限电流密度均无很大影响，而且能将控制量的硫夹入镀层。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条