1) cerium oxide slurry
氧化铈抛光液
1.
The effect of pH value and solid concentration on the properties of cerium oxide slurry was studied,such as stability,contact angle on Si (100) surface and viscosity number.
研究了氧化铈抛光液颗粒浓度和pH值的变化对抛光液悬浮性能、接触角和粘度的影响。
2) molycomp 5310
二氧化铈(抛光粉)
4) silica dielectric slurry
二氧化硅抛光液
5) colloidal SiO_2 slurry
纳米氧化硅抛光液
1.
ZYGO profiler indicates that,with the prepared colloidal SiO_2 slurry,the average ro.
为满足先进电子产品对玻璃基片表面超光滑的要求,制备了一种纳米氧化硅抛光液,并研究了氧化硅粒子大小、抛光时间等参数对玻璃基片抛光后表面粗糙度、材料去除速率的影响。
6) chemical polishing solution
化学抛光液
1.
From the sustainable development strategic goal, the status and development trends of research on chemical polishing solution for stainless steel are mainly introduced.
从可持续发展战略目标出发,主要介绍了国内外不锈钢化学抛光液的研究现状与发展趋势,指出环保型(即无污染物排放)的不锈钢化学抛光液的研究具有广阔的发展前景。
2.
Aluminium in spent phosphoric acid-based chemical polishing solution was removed by precipitation process with sodium fluoaluminate and the process conditions for regeneration of the solution were studied.
采用氟铝酸钠沉淀法去除失效磷酸基化学抛光液中的铝杂质,并对溶液再生利用的工艺条件进行了研究。
补充资料：二氧化铈(抛光粉)
CAS：1306-38-3
分子式：CeO2
分子质量：172.11
熔点：2600℃
中文名称：氧化高铈；二氧化铈；氧化铈；二氧化铈(抛光粉)；铈土,氧化铈；发乳白色的,玻璃白
英文名称：Ceric oxide；Ceria；Cerium dioxide；Cerium oxide；ceric dioxide；cerium oxide；cerium oxide；molycomp 5310；needlal；needlal u15；needlal w10-01；needlal w15；nidoral；opaline
分子式：CeO2
分子质量：172.11
熔点：2600℃
中文名称：氧化高铈；二氧化铈；氧化铈；二氧化铈(抛光粉)；铈土,氧化铈；发乳白色的,玻璃白
英文名称：Ceric oxide；Ceria；Cerium dioxide；Cerium oxide；ceric dioxide；cerium oxide；cerium oxide；molycomp 5310；needlal；needlal u15；needlal w10-01；needlal w15；nidoral；opaline
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条