补充资料：X射线形貌术

X射线形貌术
X一ray toPograPhy

　　X射线形貌术x一rayt叩。graPhy利用X射线对晶体的完整部分和不完整部分的衍射方向不同或衍射强度不同所记录到的衬度，以研究晶体完整性的衍射技术。在实际晶体中存在的各种不同晶体缺陷形成的晶格畸变，使得X射线衍射强度增强或减弱，甚至不产生衍射。这就造成了形貌象中相应部位的消光衬度或取向衬度。在很多近完整晶体中，由于X射线入射波和衍射波在晶体中的交互作用，产生了一些动力学衍衬干涉条纹，因而对各种晶体缺陷的动力学衍衬象的分析，完全建立在完整晶体衍射动力学基础上。 X射线形貌术的实验装置主要包括X射线光源、入射束准直系统、样品台及取向调节装置、记录系统。光源焦点的大小、入射光的垂直和水平发散度、样品取向的调节精度以及记录系统所选用的底板，都直接影响形貌象的分辨率。目前能达到的最高分辨率为1一2召m。X射线形貌术按实验布置可以分为取向衬度形貌术、透射投影形貌术、反射形貌术、双晶形貌术和异常透射形貌术。其中以透射投影形貌术使用最普遍。应用X射线形貌术能显示晶体中的位错、层错、各种畴界、孪晶界、生长区界面、生长层以及长程应力场等，还能测定单个缺陷的伯格斯矢量、应变向指和空间组态等。X射线形貌术的特点是能对大块晶体进行非破坏性的研究。但是分辨率低，曝光时间长。同步辐射光源出现后，大大地缩短了曝光时间，还能对晶体缺陷进行动态研究。(蒋树声)
　　

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