1) self-ion implantation
自离子轰击
2) Ion bombardment
离子轰击
1.
Study on the ion bombardment for surface treatment of titanium-base pH electrode;
钛基pH电极表面离子轰击处理的研究
2.
The results show that under 3-7 keV Ar+ ion bombardment, the compositions of both NiaAla and NiAl3 change greatly and the Ni concentration is much higher than the corresponding stoichiometric one.
在能量为3,5和7 keV的氩离子轰击下,对激冷Ni-50％Al(质量分数)合金薄膜进行减薄,用配备有超薄窗口能谱仪的高分辨电镜观察分析了减薄后样品中两种合金相Ni2Al3和NiAl3的结构和成分变化。
3.
Especially in the condi- tion of hollow cathode dischage, the ion bombardment enhances ionization of oxygen, promotes the oxygen permeation and facilitates the formation of the oxide of low valence states of Ti.
特别是，在空心阴极辉光放电条件下，离子轰击会加强氧的离子化，促进渗氧，有助于低价态氧化物的形成。
3) Ar ion bombardment
Ar离子轰击
1.
X-ray photoelectron spectroscopy analysis of high oriented pyrolytic graphite surface structural changes induced by Ar ion bombardment;
Ar离子轰击高定向石墨表面结构变化的X射线光电子能谱分析
4) Ar~+ sputtering
氩离子轰击
1.
To make uniformly sized and spaced Ag clusters, the HOPG surface was modified by thermal oxidization and Ar~+ sputtering before Ag deposition, respectively.
本文分别采用加热氧化和氩离子轰击来改变HOPG衬底的表面结构,并用扫描隧道显微镜(STM)研究了银在它们上面的生长过程。
5) plasma bombardment
等离子轰击
1.
By field experiments, the technique of infiltration of titanium, nitrogen and carbon by plasma bombardment has proved effective in treatment of some wearing parts in soda manufacturing equipment.
采用等离子轰击扩渗钛、氮、碳技术处理制碱工业设备中的一些易损件 ,经现场实验 ,初见成效。
6) in-bombarding furnace
离子轰击炉
补充资料：电子轰击离子源
分子式：
CAS号：
性质：又称电子轰击离子源(electron impact ion source)，常缩写为EI1源(EI1 source)。质谱分析中最常用的离子源，由炽热灯丝发射的电子束，经电离室飞向阳极，被气化的试样分子流在约10-2Pa压力下进入离子源，与能量约为70eV的电子束作用，发生约10～20eV的能量交换，形成包括正离子在内的各种产物。正离子由一个小的推斥(或拉出)电位推出离子源，被加速后送入质量分析器。大部分试样分子和电离产物被离子源的真空泵抽走。
CAS号：
性质：又称电子轰击离子源(electron impact ion source)，常缩写为EI1源(EI1 source)。质谱分析中最常用的离子源，由炽热灯丝发射的电子束，经电离室飞向阳极，被气化的试样分子流在约10-2Pa压力下进入离子源，与能量约为70eV的电子束作用，发生约10～20eV的能量交换，形成包括正离子在内的各种产物。正离子由一个小的推斥(或拉出)电位推出离子源，被加速后送入质量分析器。大部分试样分子和电离产物被离子源的真空泵抽走。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条