1) 3SrO·2SiO_2·nH_2O
3SrO·2SiO2·nH2O
2) RuO_2·nH_2O films
RuO2·nH2O薄膜
1.
Effects of the different current density on adhesion and morphology of RuO_2·nH_2O films are studied by galvanostatic deposition.
采用直流电沉积的方法研究了阴极电流密度的变化(1mA/cm2、3mA/cm2、5mA/cm2、10mA/cm2)对RuO2·nH2O薄膜附着力和形貌的影响,并探讨了RuO2·nH2O电沉积的机理。
3) Nb_2O_5·nH_2O colloid
Nb2O5.nH2O胶体
4) Al_2(SO_4)_3·nH_2O
Al2(SO4)3.nH2O
5) Ta2O5·nH2O colloid
Ta2O5·nH2O胶体
6) TiO 2 ·n H 2O gel
TiO2·nH2O凝胶
补充资料：Ac-[Nle4,Asp5,D-Phe7,Lys10]alpha-MSH-(4-10)-NH2
分子式：C50H69N15O9
分子量：1024.18
CAS号：121062-08-6
性质：密度1.43。
分子量：1024.18
CAS号：121062-08-6
性质：密度1.43。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条