1) photoacid generator
光致酸发生剂
1.
Then the photoacid generator(PAG) triphenylsulfonium tosylate was synthesized by silver salt replacement.
再运用银盐置换法,合成了光致酸发生剂——对甲基苯磺酸三苯基硫盐,并对其进行了红外和核磁共振表征。
2) Photo acid generation
光致生酸
3) photo-acid generator
光致产酸剂
1.
This paper describes the evolution and status of the 193 nm photoresists in aspects of matrix resins,photo-acid generator,dissolution inhibitor,base additives,existing problems and ways of solutions.
从193nm光刻胶的各个组分,如:主体树脂、光致产酸剂、溶解抑制剂、碱性添加剂以及存在的问题和解决途径等多个方面综述了193nm深紫外光刻胶的发展与现状。
2.
This paper discuss the preparation technology of 193 nm photoresist from the structure design of matrix polymer,the synthetic technology of monomer and of matrix polymer, the evaluation of photo-acid generator and prescription research.
从主体树脂的结构设计、单体的合成工艺、主体树脂的合成工艺、光致产酸剂的评价、配方研究等多个方面论述了193nm光刻胶的研制工艺,合成出了多种适用的单体及多种结构的主体树脂,进行了大量的配方研究,筛选出了最佳配方。
3.
This paper gives an overview of development history of immersion lithography,the challenges being faced and the requirements of the immersion photoresist;the recent progress of the main resin,the photo-acid generator and the additives are reviewed.
本文概述了浸没式光刻技术的发展历程和浸没式光刻胶遇到的挑战及要求;对浸没式光刻胶主体树脂、光致产酸剂及添加剂的研究进展进行了综述;最后对浸没式光刻胶的研究发展方向作了进一步的探讨及初步预测。
5) photoacid generator
光生酸剂
1.
Design and Synthesis of Photoacid Generator with High Efficiency and Research on Performance;
高效光生酸剂的设计合成与性能研究
2.
Synthesis and Indication of Photoacid Generator Derived From Triphenylamine;
一种基于三苯胺类光生酸剂的制备与表征
3.
Design, Synthesis and Performance of Photoacid Generator with High Efficiency;
高效光生酸剂的设计合成及性能研究
6) photo-acid generator
光生酸剂
1.
4 kinds of triazine derivatives as photo-acid generator were synthesized by the reactions of 2-methyl-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine and substituted aromatic aldehydes.
以2-甲基-4,6-双(三氯甲基)-1,3,5-三嗪为原料,与取代的芳香醛类化合物经过缩合反应制备了四种三嗪类光生酸剂,其结构经1HNMRI、R等分析确认,同时对其基本物性、紫外吸收性能及在405、365nm光源下的光分解及产酸性能进行了研究。
2.
A kind of imaging component based on photo-acid generator and acid-sensitive cross-linking novolac resin is used to make a kind of photosensitive imaging system.
为了研究一种有望应用于计算机直接制版(computer-to-plate,CTP)的光敏成像版材配方,先以对甲酚和甲醛为原料合成一种交联剂,利用IR、TG进行结构表征;将它和一种线性酚醛树脂配制成涂膜液,其中分别掺加2种三嗪类光生酸剂,通过曝光、烤版、显影研究成像过程,并利用膜厚变化和表面特性变化研究成像性能。
3.
A kind of imaging component based on photo-acid generator and acid-sensitive cross-linking novolac resin was used to buid up a kind of photosensitive imaging system.
先以双酚 A 和甲醛为原料合成一种交联剂,利用 IR 和 TG 进行结构表证;将它和一种线性酚醛树脂配制成涂膜液,掺加三嗪类光生酸剂,通过曝光、烤版、显影研究成像过程,并利用膜厚变化和表面亲和性变化研究成像性能。
补充资料：干膜光致抗蚀剂
分子式：
CAS号：
性质： 将无溶剂型光致抗蚀剂涂在涤纶片基上，再覆上聚乙烯薄膜。使用时揭去聚乙烯薄膜，把干胶层压在版基上，经曝光显影处理，即可形成图像。主要是利用多官能团的丙烯酸酯类单体或带双键的丙烯酸酯光敏树脂在光引发剂存在下，由光引发聚合反应产生交联结构而达到成像目的。多用于印刷线路板等的生产。
CAS号：
性质： 将无溶剂型光致抗蚀剂涂在涤纶片基上，再覆上聚乙烯薄膜。使用时揭去聚乙烯薄膜，把干胶层压在版基上，经曝光显影处理，即可形成图像。主要是利用多官能团的丙烯酸酯类单体或带双键的丙烯酸酯光敏树脂在光引发剂存在下，由光引发聚合反应产生交联结构而达到成像目的。多用于印刷线路板等的生产。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条