2) silver halide microcrystal
卤化银微晶
1.
The new preparation technology of silver halide microcrystals in high speed color negative film in recent years is reviewed, and the effect of the structure of silver halide microcrystals on their photographic properties is discussed.
本文叙述了近年来高速彩色负片采用的新的卤化银微晶制备技术,并就卤化银微晶的结构对感光性能的影响进行了分析。
3) silver halide microcrystals
卤化银微晶
1.
The action curves of free photoelectrons and shallow-trapped electrons in silver halide microcrystals were obtained by microwave absorption phase-sensitivity detection technique.
本文采用微波吸收相敏检测技术 ,得到了卤化银微晶的自由光电子与浅束缚光电子的产生与衰减曲线 ,对比光电子产生量与激发光强之间的关系 ,验证了Gurney Mott理论的光吸收过程 ,分析了不同类型卤化银材料中光电子的衰减特性 ,讨论了卤化银微晶中光电子行为对其感光性能的影响。
4) nonsilver core/silver halide shell microcrystal
非银核/卤化银壳微晶
5) CaWO 4 core/AgX shell microcrystal emulsion
钨酸钙核/卤化银壳微晶
6) compound sulfadiazine silver
磺胺嘧啶银均匀微晶
补充资料：细晶银
分子式：
CAS号：
性质：银基含少量镍的二元合金，镍可提高银的硬度、耐磨性和抗烧损性。如AgNi0.15合金的密度10.5g/cm3。熔点960℃。抗拉强度370MPa。电阻系数1.8×10-2Ω·mm2/m，电阻温度系数3.5×10-3/℃。用熔炼和压力加工法制造。用作电接触材料。
CAS号：
性质：银基含少量镍的二元合金，镍可提高银的硬度、耐磨性和抗烧损性。如AgNi0.15合金的密度10.5g/cm3。熔点960℃。抗拉强度370MPa。电阻系数1.8×10-2Ω·mm2/m，电阻温度系数3.5×10-3/℃。用熔炼和压力加工法制造。用作电接触材料。
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参考词条