1) chemical etching
化学浸蚀
1.
Because porous silicon can be easily synthesized directly by electrochemical anodization or chemical etching methods, it seems ideal for Si based opto electronic devices, biolical and chemical sensors, new material support, biocompatible materials and in vivo electronics etc.
笔者以金属硅粉作为研究对象 ,采用化学浸蚀工艺制备多孔硅粉 ,利用比表面积测定仪、扫描电子显微镜、扫描隧道显微镜等研究了不同浸蚀温度制备的多孔硅粉比表面积、孔径分布、表面形貌及微结构的变化。
2.
Porous silicon was formed by chemical etching of p-typed silicon wafers with different resistivities,the fabrication process was optimized by orthogonal experiment and the effect of time on the properties of porous silicon was also studied.
以不同电阻率的p型单晶硅片为研究对象,通过正交实验对化学浸蚀法制备多孔硅的工艺条件进行优化,采用多种仪器对制备的多孔硅比表面积、膜厚、表面形貌、化学组成及光致发光进行表征。
2) chemical erosion
化学浸蚀
1.
Based on the properties of the precise profiled titanium wire that the dimension is small,high accuracy and the requirements of its inner and surface!quality are very high,the article aims to study on preparation of metallographic sample,the way of chemical erosion and aspects needed to pay attention to.
针对异型钛材尺寸小,精度高,内在质量及表面质量要求高的特点,探讨了相应金相样品的制备、化学浸蚀的方法及应该注意的问题,制得了清晰的金相照片,为实现异型钛材生产中的内部质量控制提供了保证。
3) Thermal chemical etching
热化学浸蚀
4) chemical etchant
化学浸蚀剂
1.
The chemical etchant at room temperature, hot chemical etching agent, electrolytic etching in acid and alkaline solution were utilized in investigating different chemical etchant to reveal the microstructure in 2205 duplex stainless steel.
采用室温化学浸蚀剂、热化学浸蚀剂、酸性和碱性电解浸蚀剂,研究了不同的浸蚀剂对显示2205型双相不锈钢的显微组织的影响。
5) etching with acid solution
酸化浸蚀
6) electro-chemical etching
电化浸蚀
补充资料：化学浸蚀
分子式：
分子量：
CAS号：
性质：电镀前处理过程之一。将制件浸入适当浓度的酸或碱溶液中，以清除其表面上的锈层和氧化物。浸蚀后再经中和、水洗等工序，然后进行电镀。可使制件的表面洁净，能与镀层牢固结合。例如钢铁制件在镀锌前，常用硫酸或盐酸溶液清除锈层。铜制件在镀镍、镀铬前，用硝酸和硫酸溶液清除氧化物。铝制件在阳极氧化处理前，用氢氧化钠或碳酸钠溶液清除氧化物。
分子量：
CAS号：
性质：电镀前处理过程之一。将制件浸入适当浓度的酸或碱溶液中，以清除其表面上的锈层和氧化物。浸蚀后再经中和、水洗等工序，然后进行电镀。可使制件的表面洁净，能与镀层牢固结合。例如钢铁制件在镀锌前，常用硫酸或盐酸溶液清除锈层。铜制件在镀镍、镀铬前，用硝酸和硫酸溶液清除氧化物。铝制件在阳极氧化处理前，用氢氧化钠或碳酸钠溶液清除氧化物。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条