1) vacant heteropoly acids
缺位杂多酸
2) lacunary-heteropolyate
缺位硅钨杂多酸盐
3) lacunary heteropolytungstate
缺位磷钨杂多酸盐
4) mono/divacant Polyoxometalates
单/双缺位多酸
5) monovacant heteropolyanion
一缺位杂多阴离子
6) Trivacant heteropolyanion
三缺位杂多阴离子
1.
Reaction of the trivacant heteropolyanions α-A-PW 9O 34 9- with Ph 2SiCl 2 leads to the formation of the diphenylsilicion derivatives (TBA) 3[α-A-PW 9O 34 (Ph 2Si) 3].
以Na8 H[PW9O3 4 ]·nH2 O与Ph2 SiCl2 为原料于乙腈中合成了三缺位杂多阴离子的二苯基硅衍生物(TBA)3[α-A -PW9O3 4 (Ph2 Si)3 ](TBA为四丁基铵盐的缩写)(记为I),并由元素分析、红外光谱、紫外光谱对化合物进行了表征,结果表明,二苯基硅通过六个Si-O -W桥键填充到三缺位杂多阴离子的骨架上,形成了开环的饱和笼形结构。
补充资料：缺位
1.职位空缺。
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参考词条