1) d band metal
d能带金属
2) d~(10) metal
d~(10)金属
3) band theory of metals
金属能带理论
4) metal strip
金属带材
1.
Theoretical Investigation into Continuous Tension Leveling Process of Metal Strip (2) --Analysis on the tension leveling process of elastic-perfect plastic metal strip over the first bending roll;
金属带材拉伸弯曲矫直过程简化解析分析之二─—理想弹塑性带材在第1个弯曲辊上的拉弯过程分析
2.
In order to improve the speed and quality of high speed continuous plating on thin metal strip,reduce the energy cost,it is very important to control the current density of metal electrodeposition and the geometric of the anode.
为了提高金属带材连续高速电镀的速度、质量和降低能耗,控制金属电沉积的电流密度和阳极形状是关键。
5) melt belt
金属丝带
6) metal substrate
金属基带
1.
A review of metal substrates for coated conductors;
涂层导体金属基带的研究进展
补充资料：能带
分子式：
CAS号：
性质：在形成分子时，原子轨道构成具有分立能级的分子轨道。晶体是由大量的原子有序堆积而成的。由原子轨道所构成的分子轨道的数量非常之大，以至于可以将所形成的分子轨道的能级看成是准连续的，即形成了能带。在0K时电子在能带中所占据的最高充填能级称为费米能级。固体的能带可以用能态密度表示，它表示了在单位能量间隔内电子状态的数目。能态密度为零的区间称为禁带，最高完全占据的能带称做价带，最低未完全占据的能带称做导带。金属材料中导带被部分充填，因而具有电子导电性。半导体和绝缘体的导带都是空的，价带完全充满，两者的区别是禁带的宽度不同。固体能带的宽度也是表征固体特性的管理机制因素，它与晶体中原子轨道间的相互作用大小直接相关。对过渡金属元素而言，第一过渡金属元素的d轨道间的相互作用较小，形成的能带宽度较窄，所以相应的过渡金属氧化物多为半导体。第二和第三过渡系列元素d轨道间的相互作用较强，形成的能带较宽，所以相应的化合物常具有金属性。
CAS号：
性质：在形成分子时，原子轨道构成具有分立能级的分子轨道。晶体是由大量的原子有序堆积而成的。由原子轨道所构成的分子轨道的数量非常之大，以至于可以将所形成的分子轨道的能级看成是准连续的，即形成了能带。在0K时电子在能带中所占据的最高充填能级称为费米能级。固体的能带可以用能态密度表示，它表示了在单位能量间隔内电子状态的数目。能态密度为零的区间称为禁带，最高完全占据的能带称做价带，最低未完全占据的能带称做导带。金属材料中导带被部分充填，因而具有电子导电性。半导体和绝缘体的导带都是空的，价带完全充满，两者的区别是禁带的宽度不同。固体能带的宽度也是表征固体特性的管理机制因素，它与晶体中原子轨道间的相互作用大小直接相关。对过渡金属元素而言，第一过渡金属元素的d轨道间的相互作用较小，形成的能带宽度较窄，所以相应的过渡金属氧化物多为半导体。第二和第三过渡系列元素d轨道间的相互作用较强，形成的能带较宽，所以相应的化合物常具有金属性。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条