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1)  High Silicon Steel
高硅钢
1.
Mechanical and Magnetic Properties of Cold Rolled 0.02C-6.56Si High Silicon Steel Sheet;
冷轧0.02C-6.56Si高硅钢薄板的力学和磁性能
2.
The preparation technology and parameters of high silicon steel by deposition-diffusion are reviewed.
综述了化学气相沉积、等离子体化学气相沉积、电泳沉积、熔盐电沉积、电子束物理气相沉积及激光熔覆等6种沉积扩散法制备高硅钢的工艺和参数,从工艺路线、反应机理分析和性能的改善等几方面,概述了各种方法的研究现状和主要的优缺点,并简要论述了其发展前景,指出了今后的主要研究方向。
2)  Fe 4.5wt%Si deposit alloy
高硅硅钢
3)  high silicon electrical steel
高硅硅钢片
1.
The effect of high temperature rapid annealing on preparation of high silicon electrical steel by EB-PVD;
高温快速退火对电子束物理气相沉积制备高硅硅钢片的影响
2.
The high silicon electrical steel has excellent soft magnetic properties.
高硅硅钢片具有优异的软磁性能,是中高频、低铁损、低噪音条件下的理想铁芯材料。
4)  high silicon cast steel
高硅铸钢
1.
Microstructure and mechanical properties of austempered high silicon cast steel;
等温淬火高硅铸钢的显微组织和机械性能
2.
The microstructure and morphology of retained austenite of austempered high silicon cast steel after various austempering combinations are investigated by TEM,and the volume fraction of retained austenite is measured by XRD method.
采用透射电子显微镜(TEM)对高硅铸钢等温淬火热处理后的显微组织以及残余奥氏体分布形态进行了研究,对等温淬火组织中残余奥氏体量进行了测定,结果表明,残余奥氏体呈薄膜状及块状两种分布形态。
3.
The volume fraction and carbon content of retained austenite in the austempered high silicon cast steel after various austempering combinations were investigated by XRD method.
采用X射线衍射对高硅铸钢等温淬火热处理后的残余奥氏体量以及残余奥氏体含碳量进行了测定。
5)  silicon steel furnace
硅钢高炉
6)  high silicon steel sheet
高硅钢片
1.
g high silicon steel sheet by electro deposition-diffusion process.
g-1高硅钢片的研制工作。
补充资料:高硅钢


高硅钢
high silicon steel

高硅钢high silieon Steel含硅(51)4.5一6.5%的硅铁(Si一Fe)合金。Si含量6.5%的高硅钢与Si含量3%的无取向硅钢相比,电阻率约提高一倍(82户见·m),铁损P10/50降低50%,高频铁损更低(f)400 Hz);最大磁导率ha高3倍以上;饱和磁致伸缩系数接近于零;磁各向异性约低40%。高硅钢板适合制作高速高频电机、高频和无噪音变压器、扼流线圈和高频磁屏蔽。制成的0.4kw一360Hz高速微电机与用无取向硅钢制的相比,铁损降低35%,效率提高约3%。制成的135kVA音频变压器与用取向硅钢制的相比,在频率IkHz和磁感应强度IT条件下,噪声低19dB,铁损低16W/kg;设计最大磁感应强度Bm提高2.6倍,体积减小30%,重量减轻40%,铜线减少48%,负载损耗明显降低。 高硅钢铸态晶粒粗大(10一30mm),硬且脆,不能冷加工。可采用以下两种方法生产。①轧制法:碳、硫、磷、氮和氧量分别小于0.005%,锰小于0.2%的高纯净铸坯或板坯,在700℃以上装炉并加热到1150一1200℃,粗轧后晶粒尺寸控制在1.2一2.omm,然后在1100℃以下精轧。终轧温度为800一850℃,卷取温度为600℃,卷取最大应变量小于1%。热轧板为纤维状组织,沿板厚方向的平均晶界间距控制在0.2mm以下。经100一300oC温轧,压下率为60一80%。温轧后先经200一400℃预退火进行回复,再在连续炉内氢气中进行1000一1200oC、1一10分钟,退火和涂绝缘膜,晶粒直径约lmm。为改善高频铁损和冲片性,最后经800一1000oC退火。②化学气相沉积(CVD)渗硅法:硅含量约3%的冷轧带在非氧化气氛中(如氮或氨气)加热到1000℃后,通入含大于16%SIC14的氮或氨气,并以大于每分钟50℃的速度快升温到1100一1200℃,进行3一30分钟渗硅和1200℃、3小时均匀扩散处理。渗硅反应式为 SFe+SICI‘一Fe3Si+ZFeCI:T此法适用于0.10一0.35mm厚板。 (何忠治)
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参考词条