1) semi-water coal gas de-sulfur process
半脱工艺
1.
Application was introduced for de-sulfur of catalysis-tannin extract method in semi-water coal gas de-sulfur process from aspects of process flow,equipment layout and operating process indexes etc.
从工艺流程、设备配置和运行工艺指标等方面介绍了催化栲胶法脱硫在半脱工艺中的应用;简述了888型脱硫催化剂的催化机理、反应原理以及催化栲胶法脱硫工艺的优点,着重分析了催化栲胶法脱硫的影响因素以及脱硫、再生、硫回收三者之间的相互影响和制约关系。
2) partial dehydration
半脱水工艺
3) dehydration technology
脱水工艺
1.
In consideration of lack of applied instance for dehydration technology in high sour gas fields in China, we carried out the logical optimization study for dehydration technology in high sour gas fields in this paper by analyzing its shortage and advantage at present, and chosed the molecule sieves dehydration technology at the end.
针对国内高酸性气田脱水工艺应用实例较少的情况,文章分析了目前主要脱水工艺的优劣,对高酸性气田的脱水工艺进行合理的优化研究,最终选择了分子筛脱水工艺,并根据国外成熟应用经验,合理采用了湿气再生、双塔流程,为高效、经济地开发高酸性气田创造条件,同时亦提高了安全方面的可靠性。
4) decoloration technology
脱色工艺
1.
Study on the decoloration technology of casein peptides;
乳源酪蛋白肽脱色工艺条件的研究
2.
In this paper,the decoloration technology of casein peptides using powdered active carbon was studied by orthogonal test.
采用正交试验法,以脱色 OD 值和肽损失率为指标,研究粉末活性炭对乳源酪蛋白肽的脱色工艺。
5) Denitrification Process
脱硝工艺
1.
Analysis and Evaluation on Three Different Configuration of Selective Catalytic Reduction Denitrification Process;
选择性催化还原脱硝工艺的布置方式及分析
6) decoherence technology
脱圈工艺
补充资料：半导体工艺技术面临重大飞跃
Intel、摩托罗拉、IBM等公司与美国三个国家实验室昨日披露了超紫外线光刻技术的步进机（stepper）原型。
专家预估，EUV初步将投入0.07微米工艺的试产，未来至少可将芯片工艺技术带入0.03微米的领域，甚至不无直逼0.007微米工艺的可能。
ITdoor援引亚洲华尔街日报昨日报导称，由于部分研究人员早已预估，除非产业采用缩小芯片的电路尺寸技术，否则长期以来让半导体产业维持成长的摩尔定律可能会在2005年失效。为此，半导体产业已相继投入新工艺技术的开发工作。如今，初步的开发成果即将公布，由Intel、IBM、摩托罗拉等公司所组成的企业联盟与美国三个国家实验室，昨日在加州桑迪亚国家实验室展示采用EUV技术的步进机原型。该企业联盟投入EUV的开发经费已逾2.5亿美元，并期许EUV可让摩尔定律的寿命再延长至少10年。
EUV技术是以超紫外线将超精的电路线显影于晶圆上，其产生的电路较传统的光束光刻技术缩小7～20％。目前产业界最精密的工艺技术是0.13微米，上周Intel才宣布以0.13微米工艺产出芯片，但绝大部分仍将采用传统的制造技术。
专家预估，EUV初步将投入0.07微米工艺的试产，未来至少可将芯片工艺技术带入0.03微米的领域，甚至不无直逼0.007微米工艺的可能。
ITdoor援引亚洲华尔街日报昨日报导称，由于部分研究人员早已预估，除非产业采用缩小芯片的电路尺寸技术，否则长期以来让半导体产业维持成长的摩尔定律可能会在2005年失效。为此，半导体产业已相继投入新工艺技术的开发工作。如今，初步的开发成果即将公布，由Intel、IBM、摩托罗拉等公司所组成的企业联盟与美国三个国家实验室，昨日在加州桑迪亚国家实验室展示采用EUV技术的步进机原型。该企业联盟投入EUV的开发经费已逾2.5亿美元，并期许EUV可让摩尔定律的寿命再延长至少10年。
EUV技术是以超紫外线将超精的电路线显影于晶圆上，其产生的电路较传统的光束光刻技术缩小7～20％。目前产业界最精密的工艺技术是0.13微米，上周Intel才宣布以0.13微米工艺产出芯片，但绝大部分仍将采用传统的制造技术。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条