1) photoacid generator
光生酸剂
1.
Design and Synthesis of Photoacid Generator with High Efficiency and Research on Performance;
高效光生酸剂的设计合成与性能研究
2.
Synthesis and Indication of Photoacid Generator Derived From Triphenylamine;
一种基于三苯胺类光生酸剂的制备与表征
3.
Design, Synthesis and Performance of Photoacid Generator with High Efficiency;
高效光生酸剂的设计合成及性能研究
2) photo-acid generator
光生酸剂
1.
4 kinds of triazine derivatives as photo-acid generator were synthesized by the reactions of 2-methyl-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine and substituted aromatic aldehydes.
以2-甲基-4,6-双(三氯甲基)-1,3,5-三嗪为原料,与取代的芳香醛类化合物经过缩合反应制备了四种三嗪类光生酸剂,其结构经1HNMRI、R等分析确认,同时对其基本物性、紫外吸收性能及在405、365nm光源下的光分解及产酸性能进行了研究。
2.
A kind of imaging component based on photo-acid generator and acid-sensitive cross-linking novolac resin is used to make a kind of photosensitive imaging system.
为了研究一种有望应用于计算机直接制版(computer-to-plate,CTP)的光敏成像版材配方,先以对甲酚和甲醛为原料合成一种交联剂,利用IR、TG进行结构表征;将它和一种线性酚醛树脂配制成涂膜液,其中分别掺加2种三嗪类光生酸剂,通过曝光、烤版、显影研究成像过程,并利用膜厚变化和表面特性变化研究成像性能。
3.
A kind of imaging component based on photo-acid generator and acid-sensitive cross-linking novolac resin was used to buid up a kind of photosensitive imaging system.
先以双酚 A 和甲醛为原料合成一种交联剂,利用 IR 和 TG 进行结构表证;将它和一种线性酚醛树脂配制成涂膜液,掺加三嗪类光生酸剂,通过曝光、烤版、显影研究成像过程,并利用膜厚变化和表面亲和性变化研究成像性能。
3) photochemical acid generator
光生酸剂(PAG)
4) photoacid generator
光致酸发生剂
1.
Then the photoacid generator(PAG) triphenylsulfonium tosylate was synthesized by silver salt replacement.
再运用银盐置换法,合成了光致酸发生剂——对甲基苯磺酸三苯基硫盐,并对其进行了红外和核磁共振表征。
5) PAG
光产酸剂
1.
The properties of a new photoacid generator(PAG) for 193 nm photoresist;
一种新型的193nm光致抗蚀剂用光产酸剂的性质分析
2.
We also have synthesized diphenyliodonium trimethylsilyl triflate as photo-acid-generator(PAG) in the lab.
本文通过沉淀聚合合成了聚(甲基丙烯酸-co-甲基丙烯酸甲酯-co-甲基丙烯酸叔丁酯-co-甲基丙烯酸异冰片酯)四元共聚物,合成了光产酸剂二苯碘三氟甲基磺酸盐,在净化室中以聚(甲基丙烯酸-co-甲基丙烯酸甲酯-co-甲基丙烯酸叔丁酯-co-甲基丙烯酸异冰片酯)四元共聚物为主体树脂,以二苯碘三氟甲基磺酸盐为光产酸剂,选择合适的溶剂进行配方优化实验,最终得到实验范围内的优化光刻胶,并进行系统的光刻试验。
6) photoacid generator
光产酸剂
1.
Thus formed compound can be quickly decomposed at the presence of strong acid generated by photoacid generator(PAG) above 100 ℃ and become easily soluble in dilute aqueous base.
这样形成的产物在光产酸剂产生的强酸催化下,在温度高于100℃时,可以迅速分解,从而变成稀碱水易溶。
2.
This paper introduces the latest development of the photoresist and the photoacid generator (PAG) used in the chemical amplified photoresist -the preparation of the sulfonium salts.
介绍了国内外光致抗蚀剂的研究进展、化学增幅光致抗蚀剂用光产酸剂———硫鎓盐的主要合成方法,同时介绍了193nm光致抗蚀剂所使用的光产酸剂及其合成方法,指出合成193nm光致抗蚀剂用光产酸剂的重要性。
补充资料：光生
1.平整，妥帖。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条