1) ultrafine silicon dioxide
超细二氧化硅
1.
Surface status and formation of ultrafine silicon dioxide after polymer grafting modification;
聚合物接枝改性超细二氧化硅表面状况及形成机理
2.
The surface modification with silicon coupling reagent to ultrafine silicon dioxide,which roots in waste production in fiber manufacturing,was investigated in this paper.
以通信光纤生产中产生的超细二氧化硅颗粒废料为原料,经水纯化处理后,用硅烷类偶联剂对其表面进行化学改性。
3.
Based on the study of the process of polymer grafting modification on the surface of ultrafine silicon dioxide and compared by using TEM, IR, XPS, and model calculation, the influence and mechanism of different silane coupling agents on the modification of ultrafine silicon dioxide were investigated.
在超细二氧化硅表面接枝聚合改性工艺的基础上,通过透射电子显微镜、红外光谱、X射线光电子能谱等检测手段,并结合模型计算,研究了硅烷偶联剂(silanecouplingagent)对超细二氧化硅表面聚合物接枝改性的影响及其机理。
2) ultrafine silica
超细二氧化硅
1.
Preparation of ultrafine silica with different morphologies using reverse microemulsions;
反相微乳液法制备不同形貌超细二氧化硅
2.
The preparation method,research status and main features of ultrafine silica in china are reviewed.
综述了我国超细二氧化硅的制备方法、研究现状及主要特点 ,并对其在橡胶制品、塑料制品、涂料、粘合剂等领域的应用做简要介绍 ,针对存在的问题提出了发展建
3) superfine pure silica
超细纯二氧化硅
4) ultrathin SiO 2 films
二氧化硅超薄膜
1.
Surface morphology and local electronic properties of ultrathin SiO 2 films grown by in situ thermal oxidation on Si(111) substrates in ultrahigh vacuum have been investigated by using scanning tunneling microscopy (STM) and scanning tunneling spectroscopy (STS) at room temperature.
用超高真空热氧化方法在Si(1 1 1 )清洁衬底上生长了二氧化硅超薄膜 ,并利用超高真空扫描隧道显微镜和扫描隧道谱技术对超薄膜的表面形貌和局域电学特性进行了研究。
5) Sub-mesostructure silica
超微孔二氧化硅
6) Ultrafine Zirconia
超细二氧化锆
1.
Rheological Property of Ultrafine Zirconia Slurry for Gelcasting;
超细二氧化锆注凝成形料浆流变性研究
2.
Preparation and characterization of ultrafine zirconia;
超细二氧化锆制备与表征
补充资料：染料细粉及超细粉
分子式：
CAS号：
性质：非水溶性染料或不易溶染料常采用的剂型。如分散染料、还原染料等对粒度及粒度分布均有一定要求，要求相对集中，过细、过粗，均对使用有不良影响。染料生产企业对本企业的产品均作了规定。这些染料产品一般多在2μm到上到4μm范围内，如对某些分散染料要求控制在1μm左右，分散性能4～5级，还原染料也与分散染料近似，故有超细粉之称。为使染料产品达到上述细度，常采用万能粉碎机或砂磨、球磨等进行粉碎。
CAS号：
性质：非水溶性染料或不易溶染料常采用的剂型。如分散染料、还原染料等对粒度及粒度分布均有一定要求，要求相对集中，过细、过粗，均对使用有不良影响。染料生产企业对本企业的产品均作了规定。这些染料产品一般多在2μm到上到4μm范围内，如对某些分散染料要求控制在1μm左右，分散性能4～5级，还原染料也与分散染料近似，故有超细粉之称。为使染料产品达到上述细度，常采用万能粉碎机或砂磨、球磨等进行粉碎。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条