1) quartz glass
石英玻璃
1.
Study on the preparation of electroless Ni-P alloy plating on the surface of quartz glass;
石英玻璃表面化学镀镍-磷工艺研究
2.
Analysis of temperature field and thermal stress field in quartz glass heated by laser beams;
石英玻璃在激光作用下的温度与应力场分析
3.
Study on the optical property of quartz glass and Al film reflector under charged particles irradiation;
带电粒子辐照下石英玻璃和镀铝膜反射镜光学性能研究
2) silica glass
石英玻璃
1.
Crystallization kinetics of different morphologies of fused silica glass;
不同形态石英玻璃的析晶动力学研究
2.
Investigation on the improvement of grinding efficiency and surface quality of genus silica glass;
Ⅲ类石英玻璃研磨加工效率提高与表面质量改善研究
3.
Surface topography of four types of silica glasses etched by hydrofluoric acid was investigated systematically,and also the effect of surface machining on etched surface quality of silica glass.
系统研究四类石英玻璃受HF酸腐蚀后的表面形貌,以及不同加工方法对其腐蚀表面质量的影响。
3) fused silica
石英玻璃
1.
Experimental and theoretical study on the ablation of fused silica by femtosecond lasers;
飞秒激光烧蚀石英玻璃的实验与理论研究
2.
In this paper, reported is the experimental results of the electroinduced second order non linear polarization in fused silica and its thermal erasure.
本文报导了石英玻璃的电致二阶非线性极化及其热擦除性的实验研究结果。
3.
The characteristics of the defects in fused silica are reviewed, and possible mechanism of infrared femtosecond laser inducing defects in silica glass is analyzed.
综述了近红外飞秒激光在纯石英玻璃中诱导产生点缺陷结构的研究进展,分析了飞秒激光诱导产生点缺陷结构的原因,并介绍了纯石英玻璃的点缺陷结构特性。
4) hyaline-quartz
玻璃石英
6) quartz tube
石英玻璃管
1.
Deposition of anti-corrosion nanocrystalline diamond film on quartz tube
石英玻璃管外表面抗腐蚀纳米金刚石薄膜的制备
2.
Diamond films had been deposited on quartz tube with the gas mixture of ethanol steam and hydrogen by the plasma source.
使用该等离子体源以乙醇蒸汽和氢气为气源在石英玻璃管外表面沉积金刚石膜。
补充资料:石英玻璃
石英玻璃 quartz glass 玻璃态二氧化硅(SiO2)的总称。又称熔石英。由各种天然石英(水晶、脉石英)和硅化物(四氯化硅、硅烷)熔制而成。按原料和制备工艺的不同分为透明石英玻璃和不透明石英玻璃。 透明石英玻璃的SiO2含量为99.5%~99.999%,属于高纯材料,具有优良的透光性、耐蚀性和耐热性,其软化温度为1650℃,热稳定性为1100℃,折射率(Nd)1.4585。常用的透明石英玻璃有 :① 电熔石英玻璃 。羟基含量≤5/100万,金属杂质离子含量为20/100万~50/100万,具有良好的红外透过性,但光学均匀性较差。用于红外光学和强光源领域。②气炼石英玻璃。羟基含量为150/100万~300/100万,金属杂质离子含量为20/100万左右。主要用于制备半导体。 ③人造石英玻璃。羟基含量为900/100万~1200/100万,金属杂质离子含量<5/100万。由于其在160~1000纳米波区的透过率>90%,并耐各科射线辐照,故多用于制作高均匀性光学部件、远紫外光学和耐射线辐照的航天光学部件。
不透明石英玻璃的SiO2含量大于99.5%。由于其内部存在大量尺寸为0.003~0.3毫米的小气泡,造成光散射,故其外观呈乳白色 。通常采用纯石英砂或硅石英熔制而成。主要用于硅材料生产,以及用作冶金领域的高温耐蚀材料。 |
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条